[发明专利]一种精密仪器雾化器积垢清洁剂

说明书

本发明提供一种精密仪器雾化器积垢清洁剂，其特征在于，去离子水、王水、金属螯合剂、表面活性剂、除硅剂、除硅增蚀剂和腐蚀保护剂。本发明提供的精密仪器雾化器积垢清洁剂，可以去除ICP雾化器中的各种积垢。

技术领域

本发明涉及分析化学测试技术领域，尤其涉及一种分析精密仪器雾化器积垢清洁剂。

背景技术

近年来，随着科学技术的进步，电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-AES)、全谱直读等离子体发射光谱仪(ICAP)及电感耦合离子体质谱仪(ICP-MS)等高灵敏度大型仪器得到了广泛应用，人们将该测试技术与不同的样品前处理相结合，取得了很大的进步，涌现出许多新技术、新方法，并将该测试手段应用于地质找矿及区域化探领域，取得了显著成果。

在国外，电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-AES)及电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)高灵敏度大型仪器在地质、冶金、农业、环保、石油及化工等领域已得到了广泛应用；近20年来，ICP-AES和ICP-MS大型精密仪器在我国也得到了长足发展，基本上有一定实力的分析检测中心都配备了这两种仪器，尤其矿石样品分析、食品样品分析、环境样品分析。

电感耦合等离子体发射光谱仪和电感耦合等离子体质谱仪在具体测试样品应用中，经常使用一种ICP雾化器，此类雾化器不同于医疗上应用空气加湿的那种雾化器。ICP雾化器为双层结构，外管为载气通路，内管为样品管，主要将待测液质样品雾化分析的一种装置，主要和雾室配合使用。

在具体测样过程中，特别是一些碱熔后酸化的样品的时候，极其容易在毛细管内壁和喷嘴处形成盐分积垢，造成阻塞，从而严重影响雾化效果，喷嘴处滴溅液珠，使得雾化效果下降，仪器测定元素的灵敏度严重降低，进而影响测定结果的准确度和精密度。目前解决这一问题，常用的办法有两个，一种是堵住喷嘴，通入大量气体，进行反吹；另一种就是单纯的采用稀酸进行侵泡冲洗。但是这两种方法效果很差，而且即使处理过之后能用，但是也不能长时间使用，最终只能换用新的ICP雾化器了，因此ICP雾化器是耗材，仪器公司也不保修。ICP雾化器的市场价格一般为4000–30000元不等，价格相对昂贵，更换频率较快，因此ICP雾化器成为分析测试单位的严重负担。因此，发明一种ICP雾化器积垢清洁剂具有非常重要的意义。

ICP雾化器毛细管内壁和喷嘴出盐分积垢成分比较复杂。比如在碱熔后酸化的样品，碱熔选择的坩埚类型是重要的影响因素，采用镍坩埚碱熔，那么积垢成分多为镍和钠，采用刚玉坩埚，则其成分多为铝和钠，采用铁坩埚碱熔，则为铁和钠。对于酸溶的样品，ICP雾化器毛细管内壁和喷嘴出盐分积垢出现较为缓慢，但是长时间使用，雾化器也会造成阻塞，酸化样品产生的积垢成分一般为铜、铅、锌、铁、钨、钼、锡、硅等元素，比如铅锌矿样品产生的积垢成分为铅锌，铁矿石样品的积垢成分多为铁。

发明内容

本发明提供一种精密仪器雾化器积垢清洁剂，可以去除ICP雾化器中的各种积垢。

为了解决上述技术问题，本发明提供的精密仪器雾化器积垢清洁剂是这样实现的：

一种精密仪器雾化器积垢清洁剂，去离子水、王水、金属螯合剂、表面活性剂、除硅剂、除硅增蚀剂和腐蚀保护剂。

可选的，所述金属螯合剂为EDTA二钠、柠檬酸、酒石酸、草酸和葡萄糖酸钠。

可选的，所述表面活性剂为十六烷磺酸钠、十八烷基二羟乙基甜菜碱和十六烷三甲基溴化铵。

可选的，所述除硅剂为氟硼酸类。

可选的，所述除硅剂为四氟硼酸。

可选的，所述除硅增蚀剂为三聚磷酸钠。

可选的，腐蚀保护剂为硼酸钠。