[发明专利]一种精密仪器雾化器积垢清洁剂在审
申请号: | 201711086951.5 | 申请日: | 2017-11-07 |
公开(公告)号: | CN109749890A | 公开(公告)日: | 2019-05-14 |
发明(设计)人: | 吕淑敏 | 申请(专利权)人: | 青岛四通八达商贸有限公司 |
主分类号: | C11D1/94 | 分类号: | C11D1/94;C11D3/33;C11D3/20;C11D3/06;C11D3/04;C11D3/60;B08B3/08;B08B3/10 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 266700 山东省青岛市平*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 雾化器 清洁剂 积垢 精密仪器 表面活性剂 腐蚀保护剂 金属螯合剂 去离子水 王水 除硅剂 去除 | ||
1.一种精密仪器雾化器积垢清洁剂,其特征在于,去离子水、王水、金属螯合剂、表面活性剂、除硅剂、除硅增蚀剂和腐蚀保护剂。
2.根据权利要求1所述的精密仪器雾化器积垢清洁剂,其特征在于,所述金属螯合剂为EDTA二钠、柠檬酸、酒石酸、草酸和葡萄糖酸钠。
3.根据权利要求1所述的精密仪器雾化器积垢清洁剂,其特征在于,所述表面活性剂为十六烷磺酸钠、十八烷基二羟乙基甜菜碱和十六烷三甲基溴化铵。
4.根据权利要求1所述的精密仪器雾化器积垢清洁剂,其特征在于,所述除硅剂为氟硼酸类。
5.根据权利要求4所述的精密仪器雾化器积垢清洁剂,其特征在于,所述除硅剂为四氟硼酸。
6.根据权利要求1所述的精密仪器雾化器积垢清洁剂,其特征在于,所述除硅增蚀剂为三聚磷酸钠。
7.根据权利要求1所述的精密仪器雾化器积垢清洁剂,其特征在于,腐蚀保护剂为硼酸钠。
8.根据权利要求1至7任一项所述的精密仪器雾化器积垢清洁剂,其特征在于,所述去离子水、王水、金属螯合剂、表面活性剂、除硅剂、除硅增蚀剂和腐蚀保护剂的质量比为:1000~2000:100~400:30~50:10~20:10~20:3~5:10~20。
9.根据权利要求8所述的精密仪器雾化器积垢清洁剂,其特征在于,所述金属螯合剂中EDTA二钠、柠檬酸、酒石酸、草酸和葡萄糖酸钠的质量比为:10:5:5:5:10。
10.根据权利要求9所述的精密仪器雾化器积垢清洁剂,其特征在于,所述表面活性剂中十六烷磺酸钠、十八烷基二羟乙基甜菜碱和十六烷三甲基溴化铵的质量比为:10:5:5。
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