[发明专利]一种精密仪器雾化器积垢清洁剂在审

专利信息
申请号: 201711086951.5 申请日: 2017-11-07
公开(公告)号: CN109749890A 公开(公告)日: 2019-05-14
发明(设计)人: 吕淑敏 申请(专利权)人: 青岛四通八达商贸有限公司
主分类号: C11D1/94 分类号: C11D1/94;C11D3/33;C11D3/20;C11D3/06;C11D3/04;C11D3/60;B08B3/08;B08B3/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 266700 山东省青岛市平*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 雾化器 清洁剂 积垢 精密仪器 表面活性剂 腐蚀保护剂 金属螯合剂 去离子水 王水 除硅剂 去除
【权利要求书】:

1.一种精密仪器雾化器积垢清洁剂,其特征在于,去离子水、王水、金属螯合剂、表面活性剂、除硅剂、除硅增蚀剂和腐蚀保护剂。

2.根据权利要求1所述的精密仪器雾化器积垢清洁剂,其特征在于,所述金属螯合剂为EDTA二钠、柠檬酸、酒石酸、草酸和葡萄糖酸钠。

3.根据权利要求1所述的精密仪器雾化器积垢清洁剂,其特征在于,所述表面活性剂为十六烷磺酸钠、十八烷基二羟乙基甜菜碱和十六烷三甲基溴化铵。

4.根据权利要求1所述的精密仪器雾化器积垢清洁剂,其特征在于,所述除硅剂为氟硼酸类。

5.根据权利要求4所述的精密仪器雾化器积垢清洁剂,其特征在于,所述除硅剂为四氟硼酸。

6.根据权利要求1所述的精密仪器雾化器积垢清洁剂,其特征在于,所述除硅增蚀剂为三聚磷酸钠。

7.根据权利要求1所述的精密仪器雾化器积垢清洁剂,其特征在于,腐蚀保护剂为硼酸钠。

8.根据权利要求1至7任一项所述的精密仪器雾化器积垢清洁剂,其特征在于,所述去离子水、王水、金属螯合剂、表面活性剂、除硅剂、除硅增蚀剂和腐蚀保护剂的质量比为:1000~2000:100~400:30~50:10~20:10~20:3~5:10~20。

9.根据权利要求8所述的精密仪器雾化器积垢清洁剂,其特征在于,所述金属螯合剂中EDTA二钠、柠檬酸、酒石酸、草酸和葡萄糖酸钠的质量比为:10:5:5:5:10。

10.根据权利要求9所述的精密仪器雾化器积垢清洁剂,其特征在于,所述表面活性剂中十六烷磺酸钠、十八烷基二羟乙基甜菜碱和十六烷三甲基溴化铵的质量比为:10:5:5。

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