[发明专利]真空蒸镀装置和真空涂覆方法

说明书

本发明涉及真空蒸镀装置（10），具有‑真空室（2）；‑用于接收蒸镀材料（11）的坩埚（31）；‑具有用于蒸镀材料（11）的储存容器（41）的补充装置（40）；以及‑定位装置（50），该定位装置被形成为用于使该坩埚（31）在蒸镀位置（33）与补充位置（34）之间往复运动，该补充位置用于从该储存容器中补充蒸镀材料；其中该蒸镀位置（33）和该补充位置（34）位于该真空室内部。

本发明涉及一种真空蒸镀装置，尤其用于涂覆光学元件。本发明还涉及一种对应的具有补充装置的坩埚盖，以及一种用于在真空中将蒸镀材料蒸发到基片上的真空涂覆方法。

开篇所述类型的真空蒸镀装置是已知的。尤其从EP 1 835 048 B1已知一种真空蒸镀设备和半球盖（Kalotte），具有用于固持以及用于旋转和/或翻转物体的装置。

真空蒸镀设备在此应理解为如下的设备：通过这种设备可以在真空状态、尤其高真空状态下涂覆物体。例如阴极溅射设备和蒸发设备就属于真空蒸镀设备，通过这些设备能够用蒸镀装置、例如借助于电子束或热学方面确定的材料来进行蒸发。通过此类的设备，例如可以为光学元件和非光学元件提供薄膜涂覆。光学元件在下文中理解为如下的物体：该物体预期对电磁辐射（例如像可见光、UV或IR辐射）具有吸收、透射、反射、折射或散射的功能。属于光学元件的尤其是透镜，例如眼镜透镜或接触透镜。此外属于光学元件的还有平面和圆形光学器件、棱镜、球形或非球形眼镜片、带框的眼镜玻璃片、椭圆形的眼镜片等等。非光学元件在下文中理解为消耗品。例如可以提及工具或其零件，例如像钻头，或者设备零件。

在EP 1 835 048 B1中公开的真空涂覆设备的优点在于，通过使用自动式翻转系统能够高效地在一个工作过程中涂覆例如光学透镜的正面和反面。

在此背景下值得期望的是，提供一种在高效的涂覆过程下能够实现更大的涂覆多样性的真空蒸镀装置。另外还值得期望的是，从现有的设备出发能够简单且成本低廉地实现该装置。

从EP 2 006 411 A1已知一种真空涂覆设备，其中真空室的一个壁是穿通的并且具有带有多个室的用于蒸镀单元的可旋转接收器。蒸镀单元可以放置在这些室之一中并且可以通过旋转从真空室的外部被引导到真空涂覆设备的内部中。因此蒸镀单元可以从外部（环境空气压力）转移到真空室内部（真空），而无须将真空室通气。然而此类装置是费时费力且昂贵的。

从EP 1 558 782 B1已知用于在连续的材料补充下在真空中蒸发高温超导体的装置和方法。输送装置将高温超导材料从补充装置连续输送到蒸镀区。借助于在旋转盘上的材料轨道连续地进行给送。

从DE 196 53 088 A1已知一种用于在真空室中直接补充蒸镀源的振动盘管输送装置。该振动盘管输送装置包含接收待输送物的罐（该罐在其内侧具有输送盘管）、借助于具有激励磁体和摆动锚的摆动装置可以进行摆动、并且被安排在被真空壁围绕的真空室中。这种解决方案的缺点在于复杂性高。由于在位于真空室内的摆动锚与位于真空室外部的激励磁体之间存在的间隙，真空壁尤其应当通过薄壁的、非磁性的部件来扩大。其他的补充装置从JP61003880A和JP6173004A2是已知的。

另外，用于真空涂覆设备的补充装置是已知的，其中蒸镀材料连续地（例如作为条带材料或线缆材料）给送到蒸镀装置。在此例如可以提到DE 11 2008 000 669 T5，DE 102012 109 626 A1，US 2015/203958 A1，JP 4301071A和US 4262160A。然而此类解决方案是费时费力且昂贵的。另外从DE 10 2011 016 814 A1已知一种蒸镀单元封闭装置。

在此背景下，本发明的目的在于提供一种真空蒸镀装置，该真空蒸镀装置在高效的涂覆过程下能够实现更大的涂覆多样性。另外还值得期望的是，从现有的设备出发、尤其从现有的用于涂覆光学元件的设备出发能够简单且成本低廉地实现该装置。

根据本发明的一个方面，因此提出，提供一种真空蒸镀装置，尤其用于涂覆光学元件，该真空蒸镀装置具有：

-真空室；