[发明专利]OLED显示器及其制作方法

权利要求书

1.一种OLED显示器，其特征在于，包括：TFT基板(100)、设于所述TFT基板(100)上的数条遮光像素隔离坝(200)、设于TFT基板(100)上的多个OLED发光层(300)、及分别设于多个OLED发光层(300)上的多个阴极(400)；

所述遮光像素隔离坝(200)包括坝体(210)、及设于坝体(210)上的遮光部(220)；所述数条遮光像素隔离坝(200)的坝体(210)在TFT基板(100)上围拢出多个像素区域(101)，所述多个OLED发光层(300)分别位于多个像素区域(101)内。

2.如权利要求1所述的OLED显示器，其特征在于，所述TFT基板(100)包括：衬底基板(110)、设于衬底基板(110)上的TFT阵列层(120)、覆盖TFT阵列层(120)的平坦化层(130)、及设于平坦化层(130)上与多个像素区域(101)对应的多个阳极(140)。

3.如权利要求1所述的OLED显示器，其特征在于，还包括，设于遮光像素隔离坝(200)及阴极(400)上方的封装盖板(500)、及位于封装盖板(500)与TFT基板(100)之间将封装盖板(500)与TFT基板(100)连接的框胶(600)；

所述OLED显示器为顶发光型OLED显示器。

4.如权利要求1所述的OLED显示器，其特征在于，所述遮光像素隔离坝(200)的材料为有机材料或无机材料。

5.一种OLED显示器的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1、提供TFT基板(100)；

步骤S2、在所述TFT基板(100)上形成数条遮光像素隔离坝(200)；

所述遮光像素隔离坝(200)包括坝体(210)、及设于坝体(210)上的遮光部(220)；所述数条遮光像素隔离坝(200)的坝体(210)在TFT基板(100)上围拢出多个像素区域(101)；

步骤S3、在TFT基板(100)的多个像素区域(101)内形成OLED发光层(300)。

6.如权利要求5所述的OLED显示器的制作方法，其特征在于，所述TFT基板(100)包括：衬底基板(110)、设于衬底基板(110)上的TFT阵列层(120)、覆盖TFT阵列层(120)的平坦化层(130)、及设于平坦化层(130)上与多个像素区域(101)对应的多个阳极(140)。

7.如权利要求5所述的OLED显示器的制作方法，其特征在于，还包括：

步骤S4、在OLED发光层(300)上形成阴极(400)；

步骤S5、提供封装盖板(500)；在封装盖板(500)的一侧形成框胶(600)，将封装盖板(500)形成有框胶(600)的一侧与TFT基板(100)形成有遮光像素隔离坝(200)的一侧对组贴合，得到OLED显示器，所述OLED显示器为顶发光型OLED显示器。

8.如权利要求5所述的OLED显示器的制作方法，其特征在于，所述遮光像素隔离坝(200)的材料为有机材料或无机材料。

9.如权利要求5所述的OLED显示器的制作方法，其特征在于，所述遮光像素隔离坝(200)的材料为感光性材料；所述步骤S2中在所述TFT基板(100)上形成数条遮光像素隔离坝(200)的具体过程为：在TFT基板(100)上涂覆像素隔离坝层，利用一半色调光罩对所述像素隔离坝层进行曝光及显影，形成数条遮光像素隔离坝(200)；或者，

所述遮光像素隔离坝(200)的材料为非感光性材料；所述步骤S2中在所述TFT基板(100)上形成数条遮光像素隔离坝(200)的具体过程为：在TFT基板(100)上形成一像素隔离坝层，之后在所述像素隔离坝层上形成光阻层，利用一半色调光罩对所述光阻层进行曝光及显影，得到与遮光像素隔离坝(200)对应的光阻图案，所述光阻图案中与遮光部(220)对应的部分的厚度大于除了与遮光部(220)对应的部分以外的部分的厚度，以光阻图案为遮挡对像素隔离坝层进行蚀刻，去除未被光阻图案覆盖的像素隔离坝层，之后对光阻图案进行灰化，去除光阻图案中除了与遮光部(220)对应的部分以外的部分，以灰化后的光阻图案为遮挡继续对像素隔离坝层进行蚀刻，形成数条遮光像素隔离坝(200)。

10.如权利要求5所述的OLED显示器的制作方法，其特征在于，所述步骤S3中通过打印或蒸镀的方式在TFT基板(100)的多个像素区域(101)内形成OLED发光层(300)。