[发明专利]一种超大板面减反射玻璃及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及磁控溅射镀膜玻璃应用于装饰玻璃和建筑玻璃领域，尤其是涉及一种超大板面减反射玻璃及其制备方法。

背景技术

普通的减反射玻璃只能先钢化后再镀膜，其膜层不能经过高温加热，加热后出现严重的脱膜现象，玻璃面颜色发生很大变化，所以板面比较小，而且远距离运输费用高、成本高。而这种超大板面减反射玻璃解决了以上问题。

发明内容

本发明的目的是为解决减反射玻璃板面小和不能钢化使用的难题，提供一种超大板面减反射玻璃及其制备方法。

本发明为解决上述技术问题的不足，所采用的技术方案是：

一种超大板面减反射玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层附着在玻璃基片其中一侧的外表面上，其特征在于：所述的镀膜层包括自玻璃基片至空气面依次贴合在一起设置的第一层氮化硅层、第二层氧化硅层、第三层氮化硅层和第四层氧化硅层，所述的第一层氮化硅层厚度为10-16纳米、第二层氧化硅层厚度为10-20纳米、第三层氮化硅层厚度为10-15纳米、第四层氧化硅层厚度为100-120纳米。

所述的第一层氮化硅层最佳厚度为14纳米，第二层氧化硅层最佳厚度为15纳米、第三层氮化硅层最佳厚度为12纳米、第四层氧化硅层最佳厚度为110纳米。

一种制备所述的一种超大板面减反射玻璃的方法，其特征在于：包括如下步骤：

步骤一、需配备一条内设有有分子泵、旋转阴极、清洗机、硅铝靶8根的磁控溅射镀膜线，取用纯度99.999%的氩气、氧气、氮气各一瓶，且每个气瓶上均配备气体流量计，备用；

步骤二、调整步骤一中的镀膜线真空度为3×10-6mbar，开始调试该镀膜线，安装常规镀膜线的使用方法调整使其工作，此为常规技术不属于本申请的重点，因此不做详细描述，控制镀膜线连续生产任意一种镀膜产品持续三天时间，三天后继续利用镀膜线如果能够生产其他镀膜产品后，则该镀膜线达到生产要求，因为本申请需要连续不间断的完成多层结构的连续镀膜，因此需要对镀膜线的连续工作能力进行调试，备用；

步骤三、取镀膜基片并放入步骤二中的镀膜线内将镀膜基片传输到镀膜线中的清洗机内进行清洗，将清洗机清洗后的镀膜基片传输进入镀膜线中的镀膜腔室内进行镀膜处理，首先控制镀膜腔室内镀氮化硅的靶材，同时控制气体流量计通入工作气体氩气和氮气，且氩气和氮气比例为1:2-2:1，同时旋转阴极接通中频电源使用，开始第一次镀膜在镀膜基片上形成厚度为14纳米的第一层氮化硅层；其次镀膜线持续工作控制镀膜腔室内镀氧化硅的靶材，控制气体流量计通入工作气体氩气和氧气，且氩气和氧气比例为1:3-3:2，同时旋转阴极接通中频电源使用，开始第二次镀膜在第一层氮化硅层上形成厚度为15纳米的第二层氧化硅层；再次镀膜线持续工作控制镀膜腔室内镀氮化硅的靶材，控制气体流量计通入工作气体氩气和氮气，且氩气和氮气比例为1:2-2:1，同时旋转阴极接通中频电源使用，开始第三次镀膜在第二层氧化硅层上形成厚度为12纳米的第三层氮化硅层，镀膜线持续工作控制腔室内镀氧化硅的靶材，控制气体流量计通入工作气体氩气和氧气，且氩气和氧气比例为1:3-3:2，同时旋转阴极接通中频电源使用，开始第四次镀膜在第三层氮化硅层上形成厚度为110纳米的第四层氧化硅层，镀膜结束形成镀膜产品；

步骤四、取步骤三中镀膜产品进行可见光形成参数测量并与标准数据对比，符合要求后，超大板面减反射玻璃制备完成。

所述的清洗机内需配备盘刷、滚刷、去离子水和加热器，其中去离子水电阻≥2MΩ，水温控制在30～40℃之间。

所述的步骤三中的镀膜基片为浮法原片，且镀膜基片生产日期在15天以内，表面无油渍。

所述的步骤三中氩气和氮气最佳比例为1:1.5，氩气和氧气最佳比例为1：2。

本发明的有益效果是：本发明的镀膜层耐高温，经过时间长达500秒左右、温度高达700℃的钢化后，其膜层没有被高温烧坏，其表面光学性能与钢化前一致。采用这种膜层结构进行优化，既能够得到想要的光学性能，又能够进行钢化。其主要特点是氮化硅和氧化硅的耐热性能，这两种材料在高温阶段物理性能稳定，通过这种结构配比，膜层在高温阶段组织结构没有发生变化，反而结合的更牢固，使得钢化后的产品颜色与钢化前基本一致，解决了超大板面的要求以及远距离运输的需求。

同时在镀膜层处理过程中如果工作气体比例不纯，产品的颜色会达不到减反射的效果，有可能会发生可见光透光率低、反射高的现象，因此本发明中采用合理调配工作气体的配比关系，进行镀膜生产，同时合理设计各个膜层的厚度，从而构成了减反射膜层。