[发明专利]显示面板及其基底制造方式

权利要求书

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

第一基板，包括基底，所述基底具有第一表面与第二表面；

第二基板，与所述第一基板对向设置，并相对所述基底的第一表面；

其中，所述基底为透光的蓝宝石材质制成，石墨烯镀层涂镀于所述基底的第二表面。

2.如权利要求第1项所述的显示面板，其特征在于，所述基底采用人工蓝宝石材料，所述基底的厚度包括0.2至1毫米之间。

3.如权利要求第1项所述的显示面板，其特征在于，所述第一基板为彩色滤光片基板，所述第二基板为主动开关阵列基板。

4.一种显示面板的基底制造方式，其特征在于，其步骤包括：

依所述触控屏幕的尺寸对一蓝宝石材料进行定向切割成一基底；

对切割后之所述基底进行表面之打磨，并利用去离子水进行清洗以去除表面杂质；

应力去除，将去除表面杂质的所述基底置入退火炉中进行一退火处理；

对所述基底进行双面抛光，并依所述触控屏幕的设计进行开孔；

置入一炭黑于一高温炉中；

置入所述基底于一镀膜箱中，所述镀膜箱与所述高温炉相通；以及

混合氩气与氢气形成一混合气体，对所述混合气体进行加温后通入所述高温炉中，并利用所述混合气体将该些炭黑中的碳原子输送到该镀膜箱中，对所述基底的表面进行涂镀，完成涂镀后排出所述混合气体。

5.如权利要求第4项所述显示面板的基底制造方式，其特征在于，所述退火处理的温度介于摄氏1500～1800度。

6.如权利要求第4项所述显示面板的基底制造方式，其特征在于，所述基底进行双面抛光后，表面平整度控制于0.1nm内。

7.如权利要求第4项所述显示面板的基底制造方式，其特征在于，所述混合气体中氩气与氢气的体积比为3:1。

8.如权利要求第4项所述显示面板的基底制造方式，其特征在于，所述混合气体加热至摄氏1000～1200度之间，并以每分钟介于0.1～1公升的流速通入所述高温炉中。

9.如权利要求第4项所述显示面板的基底制造方式，其特征在于，所述高温炉中的温度介于摄氏1200～1500度。

10.一种显示面板的基底制造方式，其特征在于，其步骤包括：

依所述触控屏幕的尺寸对一厚度介于0.2～1毫米的人工蓝宝石材料进行定向切割成一基底；

对切割后的所述基底进行表面打磨，并利用去离子水进行清洗以去除表面杂质；

应力去除，将去除表面杂质的所述基底置入温度介于摄氏1500～1800度的退火炉中进行一退火处理；

对所述基底进行双面抛光至表面平整度控制于0.1nm内，并依所述触控屏幕的设计进行开孔；

置入一炭黑于一温度介于摄氏1200～1500度的高温炉中；

置入所述基底于一镀膜箱中，所述镀膜箱与所述高温炉相通；以及

以体积比为氩气3：氢气1的比例混合氩气与氢气形成一混合气体，对所述混合气体进行加温至摄氏1000～1200度后以每分钟介于0.1～1公升的流速通入所述高温炉中，并利用所述混合气体将该些炭黑中的碳原子输送到该镀膜箱中，对所述基底的表面进行涂镀，完成涂镀后排出所述混合气体；

其中，在所述镀膜箱放入所述基底以及取出完成所述石墨烯涂镀程序的涂镀后的基底时，所述镀膜箱为一真空环境。