[发明专利]一种用于硅片清洗及水膜形成的一体化清洗机

说明书

技术领域

本发明涉及硅片清洗制备技术领域，具体为一种用于硅片清洗及水膜形成的一体化清洗机。

背景技术

太阳能电池片的制备过程设置到多个步骤，其中硅片的刻蚀步骤也是较为重要的一步，在刻蚀前通常都需要对硅片进行清洗，然后对硅片的上表面进行水膜成形，从而对硅片进行更好的刻蚀。

现有技术中，通常都是使用清洗装备先对硅片进行清洗，待清洗完成后，再使用设备对硅片的表面进行水膜成形，清洗过程和水膜成形过程需要使用不同的设备分步进行，操作过程十分麻烦，且浪费时间。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于硅片清洗及水膜形成的一体化清洗机，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种用于硅片清洗及水膜形成的一体化清洗机，包括基板、对称设置的左凹形板和右凹形板，所述左凹形板和右凹形板均活动设置于基板上；

所述左凹形板对应右凹形板的侧壁上开设有推板槽，所述推板槽远离右凹形板一端连通开设有推杆孔，所述推板槽内活动设置有推板，所述推杆孔内活动设置有推杆，所述推杆与推板固定连接；

所述右凹形板侧壁上对应推板槽开设有挤压板槽，所述挤压板槽内活动设置有挤压板，所述挤压板远离推板一端通过弹簧连接于挤压板槽内侧壁上；

所述左凹形板和右凹形板的相对面上端均固定有喷嘴。

优选的，所述基板设置于水槽上方。

优选的，所述左凹形板与右凹形板的活动接触处开设有插槽，所述右凹形板上对应插槽固定有插块。

优选的，所述左凹形板与右凹形板的侧壁在推板槽和喷嘴之间均水平固定有通水板，所述通水板中均匀开设有通水孔。

优选的，所述左凹形板与右凹形板的下端均固定有滑块，所述基板上开设有滑道，所述滑块活动设置于滑道内。

优选的，所述推板槽和插槽处于同一水平面内。

优选的，所述推杆远离推板一端固定于电动推杆上。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

本发明中左凹形板和右凹形板之间围成的矩形区域用来放置待清洗硅片，向两侧拉开左凹形板和右凹形板，然后使硅片放置时上表面对应推板槽即可，放置硅片完成后，合紧左凹形板和右凹形板，并且移动推杆带动推板移动至挤压板槽内，对挤压板形成挤压之势，挤压弹簧的同时使得推板完全进入挤压板槽内，然后使用喷嘴向下方的硅片进行喷淋清洗，当硅片表面被水清洗后，拉动推杆带动推板回位，回位过程中推板将刚好将硅片表面的清洗水带走，从推杆孔内流出，实现清洗；然后保持推板位于推板槽内，此时喷嘴喷淋出的水，刚好在硅片上表面形成水膜，并且硅片四周通过左凹形板和右凹形板挡住，且推板槽和挤压板槽也通过推板和挤压板挡住，可以更好的进行水膜成形，然后分开相接触的左凹形板和右凹形板，取出水膜成形后的硅片。

本发明通过左凹形板和右凹形板的限位作用，并且配合着推板的作用，可以同时实现对硅片的清洗除水作用、以及更好成形水膜的作用，清洗装置一体化程度高，使得结构更加紧凑，且操作简单，可以节约大量时间。

附图说明

图1为本发明的整体装置结构示意图；

图2为本发明中左凹形板结构示意图；

图3为本发明中右凹形板结构示意图；

图4为本发明优选实施例中左凹形板与右凹形板连接结构示意图；

图5为本发明优选实施例中硅片清洗时推板位置结构示意图；

图6为本发明的优选实施例中滑块与滑槽结构示意图。

图中：1基板、11滑道、2左凹形板、21滑块、22插槽、3右凹形板、32插块、4推板槽、41推板、5推杆孔、51推杆、6挤压板槽、7挤压板、8弹簧、9喷嘴、10通水板、101通水孔、12硅片。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1-6，本发明提供一种技术方案：