[发明专利]一种用于硅片清洗及水膜形成的一体化清洗机

权利要求书

1.一种用于硅片清洗及水膜形成的一体化清洗机，包括基板(1)、对称设置的左凹形板(2)和右凹形板(3)，其特征在于：所述左凹形板(2)和右凹形板(3)均活动设置于基板(1)上；

所述左凹形板(2)对应右凹形板(3)的侧壁上开设有推板槽(4)，所述推板槽(4)远离右凹形板(3)一端连通开设有推杆孔(5)，所述推板槽(4)内活动设置有推板(41)，所述推杆孔(5)内活动设置有推杆(51)，所述推杆(51)与推板(41)固定连接；

所述右凹形板(3)侧壁上对应推板槽(4)开设有挤压板槽(6)，所述挤压板槽(6)内活动设置有挤压板(7)，所述挤压板(7)远离推板(41)一端通过弹簧(8)连接于挤压板槽(6)内侧壁上；

所述左凹形板(2)和右凹形板(3)的相对面上端均固定有喷嘴(9)。

2.根据权利要求1所述的一种用于硅片清洗及水膜形成的一体化清洗机，其特征在于：所述基板(1)设置于水槽上方。

3.根据权利要求1所述的一种用于硅片清洗及水膜形成的一体化清洗机，其特征在于：所述左凹形板(2)与右凹形板(3)的活动接触处开设有插槽(22)，所述右凹形板(3)上对应插槽(22)固定有插块(32)。

4.根据权利要求1所述的一种用于硅片清洗及水膜形成的一体化清洗机，其特征在于：所述左凹形板(2)与右凹形板(3)的侧壁在推板槽(4)和喷嘴(9)之间均水平固定有通水板(10)，所述通水板(10)中均匀开设有通水孔(101)。

5.根据权利要求1所述的一种用于硅片清洗及水膜形成的一体化清洗机，其特征在于：所述左凹形板(2)与右凹形板(3)的下端均固定有滑块(21)，所述基板(1)上开设有滑道(11)，所述滑块(21)活动设置于滑道(11)内。

6.根据权利要求1所述的一种用于硅片清洗及水膜形成的一体化清洗机，其特征在于：所述推板槽(4)和插槽(6)处于同一水平面内。

7.根据权利要求1所述的一种用于硅片清洗及水膜形成的一体化清洗机，其特征在于：所述推杆(51)远离推板(41)一端固定于电动推杆上。