[发明专利]一种基底预对准方法和装置以及一种光刻机有效
| 申请号: | 201711046776.7 | 申请日: | 2017-10-31 |
| 公开(公告)号: | CN109725506B | 公开(公告)日: | 2020-11-13 |
| 发明(设计)人: | 田翠侠;孙伟旺;杜荣 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00 |
| 代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
| 地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 基底 对准 方法 装置 以及 光刻 | ||
1.一种基底预对准方法,其特征在于,包括如下步骤:
选取基准基底,获取所述基准基底的图像;
获取待预对准基底的图像;
将所述待预对准基底的图像与所述基准基底的图像进行配准,得出完成配准的待预对准基底的图像的偏移参数;
根据所述偏移参数调整所述待预对准基底的角度,完成基底预对准。
2.根据权利要求1所述的基底预对准方法,其特征在于,将所述待预对准基底的图像与所述基准基底的图像进行配准的过程具体包括:
提取所述基准基底图像中的多个特征点以构成参照特征点集;
提取所述待预对准基底图像中的多个特征点以构成配准特征点集;
将所述配准特征点集配准至所述参照特征点集以使两者重合。
3.根据权利要求2所述的基底预对准方法,其特征在于,所述特征点包括斑点和/或角点。
4.根据权利要求2所述的基底预对准方法,其特征在于,利用ICP算法将所述配准特征点集配准至所述参照特征点集。
5.根据权利要求4所述的基底预对准方法,其特征在于,所述利用ICP算法将所述配准特征点集配准至所述参照特征点集的过程包括:计算所述参照特征点集中与所述配准特征点集中的每个配准特征点最近的参照特征点;计算出每个配准特征点和与其对应的最近的参照特征点之间平均距离最小的刚体变换并得出偏移参数;对所述配准特征点集使用所述偏移参数得出新的变换点集;迭代计算直至所述变换点集和所述参照特征点集间的平均距离小于设定的阈值,完成配准。
6.根据权利要求5所述的基底预对准方法,其特征在于,采用K-D树算法计算所述参照特征点集中与所述配准特征点集中的每个配准特征点最近的参照特征点。
7.根据权利要求5所述的基底预对准方法,其特征在于,在计算所述参照特征点集中与所述配准特征点集中的每个配准特征点最近的参照特征点后还利用RANSAC算法在所述最近的参照特征点中去除错误的参照特征点。
8.一种基底预对准装置,其特征在于,包括:
定位装置,用于对待预对准基底进行定位操作;
图像采集分析装置,用于采集基准基底的图像以及待预对准基底的图像,将所述待预对准基底的图像与所述基准基底的图像进行配准并计算将所述待预对准基底图像配准到所述基准基底图像过程中待预对准基底图像的偏移参数;以及
控制装置,分别连接所述图像采集分析装置和定位装置,并根据所述偏移参数调整所述定位装置的角度。
9.根据权利要求8所述的基底预对准装置,其特征在于,所述定位装置包括旋转台和设置在所述旋转台一侧的定心机构,所述旋转台用于固定待预对准基底并带动所述待预对准基底旋转,所述定心机构用于将所述待预对准基底调整至与所述旋转台的中心重合。
10.根据权利要求9所述的基底预对准装置,其特征在于,所述定心机构包括水平导轨和设置在所述水平导轨上的定心台,所述定心台沿所述水平导轨做水平运动。
11.根据权利要求9所述的基底预对准装置,其特征在于,所述定位装置还包括设置在所述旋转台底部的升降台,所述升降台带动所述旋转台上下运动以调整其上的待预对准基底的垂向高度。
12.根据权利要求9所述的基底预对准装置,其特征在于,所述图像采集分析装置包括用于图像采集的CCD相机以及计算机。
13.根据权利要求12所述的基底预对准装置,其特征在于,所述基底预对准装置还包括视觉切换轴,所述CCD相机安装在所述视觉切换轴上。
14.一种光刻机,其特征在于,具备如权利要求8-13任一项所述的基底预对准装置。
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