[发明专利]蚀刻液组合物以及有机发光显示装置的制造方法

权利要求书

1.一种有机发光显示装置的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

在基板上形成包括金属的第一导电膜以及包括透明导电氧化物的第二导电膜，所述透明导电氧化物包括铟；

利用蚀刻液组合物蚀刻所述第一导电膜和所述第二导电膜，从而形成第一电极；

在所述第一电极上形成有机发光层；

在所述有机发光层上形成第二电极，

相对于总重量，所述蚀刻液组合物包括：

磷酸，50至70重量％；

硝酸，0.5至5重量％；

氯化物，0.1至1重量％；

磺酸化合物，0.5至5重量％；以及

水，20至40重量％。

2.根据权利要求1所述的有机发光显示装置的制造方法，其特征在于，

所述第一导电膜包括铝。

3.根据权利要求1所述的有机发光显示装置的制造方法，其特征在于，

所述第一导电膜包括铝、镍和镧。

4.根据权利要求1所述的有机发光显示装置的制造方法，其特征在于，

所述透明导电氧化物包括铟锡氧化物、铟锌氧化物和铟氧化物中的至少一种。

5.一种蚀刻液组合物，其特征在于，所述蚀刻液组合物用于蚀刻包括金属的第一导电膜和包括透明导电氧化物的第二导电膜，所述透明导电氧化物包括铟，

其中，相对于总重量，包括：

磷酸，50至70重量％；

硝酸，0.5至5重量％；

氯化物，0.1至1重量％；

磺酸化合物，0.5至5重量％；以及

水，20至40重量％。

6.根据权利要求5所述的蚀刻液组合物，其特征在于，不包括醋酸。

7.根据权利要求5所述的蚀刻液组合物，其特征在于，

所述氯化物包括选自HCl、NaCl、NH₄Cl、KCl、LiCl、ZnCl₂、MgCl₂以及FeCl₃中的至少一个。

8.根据权利要求5所述的蚀刻液组合物，其特征在于，

所述磺酸化合物包括环形磺酸化合物和碳化氢系磺酸化合物中的至少一种。

9.根据权利要求5所述的蚀刻液组合物，其特征在于，

所述磺酸化合物包括甲磺酸、苯磺酸、对甲苯磺酸、磺酸铵和氨基磺酸中的至少一个。