[发明专利]沉积装置及利用该装置的沉积方法有效
申请号: | 201711034759.1 | 申请日: | 2017-10-30 |
公开(公告)号: | CN108070830B | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 孙尚佑;申相原 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 李盛泉;孙昌浩 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 沉积 装置 利用 方法 | ||
本发明涉及一种可以使沉积物质均匀分布的沉积装置及利用该装置的沉积方法。根据本发明的实施例的沉积装置具有:空腔板,位于腔室的内部;基板支撑台,在所述腔室的内部布置成与所述空腔板对向;以及多个阳极,可旋转地布置于所述空腔板与所述基板支撑台之间,其中,所述阳极具有杆状,且垂直于长度方向的截面具有长方形的形状。
技术领域
本发明的实施例涉及一种沉积装置及利用该装置的沉积方法,尤其涉及一种可以使沉积物质均匀分布的沉积装置及利用该装置的沉积方法。
背景技术
随着信息化技术的发达,作为用户与信息之间的连接媒介的显示装置的重要性凸显。响应于此,液晶显示装置(Liquid Crystal Display Device)和有机电致发光显示装置(Organic Light Emitting Display Device)之类的显示装置(Display Device)的使用正在增加。
沉积装置用于将沉积物质沉积到包括液晶显示装置和有机电致发光显示装置的半导体元件用基板。
沉积装置通常以如下的方式沉积预定物质。首先,将包含氩气(Ar)和/或氧气(O2)的工艺气体注入到真空状态的腔室。然后,如果在阳极与阴极中施加预定的电压,则工艺气体借助于等离子体而被离子化,并碰撞到靶。如果离子化的气体碰撞到靶,则沉积物质被释放,被释放出的沉积物质贴附于基板而形成薄膜。
另外,阳极位于基板与靶之间。因此,从靶释放出的沉积物质的一部分被阳极阻断,于是沉积物质非均匀沉积于基板上。
发明内容
因此,本发明旨在提供一种可以使沉积物质均匀分布的沉积装置及利用该装置的沉积方法。
根据本发明的实施例的一种沉积装置,具有:空腔板,位于腔室的内部;基板支撑台,在所述腔室的内部布置成与所述空腔板对向;以及多个阳极,可旋转地布置于所述空腔板与所述基板支撑台之间,其中,所述阳极具有杆状,且垂直于长度方向的截面具有长方形的形状。
根据实施例的沉积装置还具有:旋转轴,连接于所述阳极,并具有沿所述阳极的长度方向延伸的形状;以及旋转部,用于使所述旋转轴沿预定方向旋转。
对于根据实施例的沉积装置而言,以垂直于所述长度方向的所述阳极的截面为基准,所述旋转轴位于所述阳极的中心部。
对于根据实施例的沉积装置而言,以垂直于所述长度方向的所述阳极的截面为基准,所述旋转轴从所述阳极的中心部相隔而布置。
对于根据实施例的沉积装置而言,所述阳极具有:多个贯通孔,以垂直于所述长度方向的方式贯穿所述阳极。
对于根据实施例的沉积装置而言,所述贯通孔沿所述长度方向而以相同的间距布置。
根据实施例的沉积装置还具有:突出部,以垂直于所述长度方向的所述阳极的截面为基准,从所述阳极的长方形短边突出。
对于根据实施例的沉积装置而言,所述突出部从所述长方形的短边突出为具有曲线。
对于根据实施例的沉积装置而言,彼此相邻的所述阳极沿相同方向旋转。
对于根据实施例的沉积装置而言,彼此相邻的所述阳极沿互不相同的方向旋转。
根据实施例的沉积装置还具有:背板,固定于所述空腔板;靶,固定于所述背板;掩膜,位于所述阳极与所述基板支撑台之间,用于使从所述靶释放的沉积物质被供应到所期望的区域;以及磁控管,位于所述背板的背面,用于生成磁场。
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