[发明专利]一种氧化镓相结纳米柱阵列及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201711020720.4 申请日: 2017-10-27
公开(公告)号: CN107841785B 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 郭道友;陈凯;樊寅翔;魏亚菊;吴超;时浩泽;王顺利;李培刚 申请(专利权)人: 浙江理工大学
主分类号: C30B7/10 分类号: C30B7/10;C30B29/16;C30B29/66;B82Y30/00;B82Y40/00;C03C17/00;C03C17/34
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 顾伯兴
地址: 310000 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 氧化 镓相结 纳米 阵列 及其 制备 方法
【说明书】:

发明涉及一种氧化镓相结纳米柱阵列及其制备方法,包括衬底,位于衬底上的Ga2O3籽晶层,位于Ga2O3籽晶层背离衬底层方向的有序的Ga2O3相结纳米柱阵列,所述Ga2O3纳米柱阵列由α‑Ga2O3和β‑Ga2O3构成相异质结构成。本发明通过在衬底上覆盖一层氧化镓籽晶层,利用水热法在籽晶层上生长GaOOH纳米柱阵列,并进行400℃脱水形成α‑Ga2O3纳米柱阵列,通过高温快速退火处理的方式在α‑Ga2O3纳米柱的周围形成一层β‑Ga2O3,获得α‑Ga2O3/β‑Ga2O3相结纳米柱阵列。本发明的制备方法操作简单、成本低、重复性好,纳米柱阵列分布均匀、直径和长度可控;通过构建α/β‑Ga2O3相结,在界面处形成第二类型的能带排列,能使载流子(电子空穴对)快速、有效的分离,同时纳米柱阵列具有高比表面积的优势,可应用于深紫外光电器件。

技术领域

本发明属于纳米材料技术领域,具体涉及一种氧化镓相结纳米柱阵列及其制备方法。

技术背景

半导体材料不同晶体结构的导带和价带位置会有所不同,若其中一相的导带与价带位置均比另一相要高,就会在半导体材料的界面处形成第二类型的能带排列,能使载流子(电子空穴对)在界面处发生分离,电子流向能量低的一侧,空穴迁移至能量高的一侧,使电子空穴对实现快速、有效地分离,其在光电器件、光催化和光电化学分解水中展现出巨大的应用前景。

氧化镓是一种n型的直接带隙的宽禁带半导体材料,其带隙约为4.9eV,具有高的化学稳定性和热稳定性,在日盲紫外光电探测器、气体传感器、光催化、太阳能电池等领域具有广泛的应用。氧化镓(Ga2O3)有六种同分异构体,分别为α,β,γ,ε,κ和δ相,1)、α-Ga2O3属于三方晶系(Trigonal),空间群为R-3c,晶格常数为α=β=90°,γ=120°,为刚玉结构,α-Ga2O3带隙较其它相要稍大;2)、β-Ga2O3属于单斜晶系(Monoclinic),空间群为C2/m,晶格常数α=γ=90°,β=103.8°,β-Ga2O3的晶体为阴离子密堆积结构,Ga有两种不同的位置,分别被O原子包围构成正四面体和正八面体,O则有三种不同的位置;3)、γ-Ga2O3属于立方晶系(Cubic),空间群为Fd-3m,晶格常数为α=β=γ=90°,为尖晶石结构,相比与标准的尖晶石结构如MgAl2O4(阴阳离子比为4∶3),Ga2O3的阴阳离子比仅为3:2,表现为Ga阳离子空位缺陷;4)、ε-Ga2O3属于六角晶系(Hexagonal),空间群为P63mc,晶格常数为α=β=90°,γ=120°;5)、κ-Ga2O3属于斜方晶系(Orthorhombic),空间群为Pna21,晶格常数为6)、δ-Ga2O3属于立方晶系(Cubic),空间群为Ia-3,晶格常数为α=β=γ=90°,为方铁锰矿结构。在这些同分异构体中,β-Ga2O3最稳定,其他相均为亚稳相,对于粉末材料这些亚稳相在一定的温度下都能转变为稳定的β-Ga2O3。例如:α-Ga2O3在温度700℃以上就转变为β-Ga2O3,γ,ε和κ相则分别在550℃,500℃和500℃的温度条件下转变为β相,而δ相为中间相,其在400℃转化为ε相,再在500℃转变为β相。然而它们的逆过程也是可以实现的,一般都是通过施加高压,如β-Ga2O3在4GPa的外力作用下可以转变为α-Ga2O3,而α-Ga2O3在37GPa的外力作用下则可以转变为ε-Ga2O3。因此利用Ga2O3材料是构建第二类型的能带排列是合适的,也是非常有意义的。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江理工大学,未经浙江理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711020720.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top