[发明专利]基板处理装置、工艺流体处理装置及臭氧分解方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：

工艺腔室，配置为利用包含臭氧的工艺流体处理基板；

排放管道，连接至所述工艺腔室以排放用于处理所述基板的工艺流体；和

工艺流体处理装置，与所述排放管道连接，

其中，所述工艺流体处理装置包括：

壳体，所述壳体具有内部空间，所述内部空间具有容纳所述工艺流体的设定容积；

喷射喷嘴，配置为将所述排放管道与所述壳体的内部空间连接；

挡板，所述挡板位于所述内部空间中，使得所述挡板的上表面面向通过所述喷射喷嘴喷射的所述工艺流体，并且

其中，所述挡板被设置成以便不被浸入所述内部空间中所容纳的所述工艺流体中。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述喷射喷嘴配置为向下喷射所述工艺流体，

其中，所述挡板利用阻挡板来实现，在所述阻挡板中没有形成孔。

3.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述喷射喷嘴包括多个喷孔，所述工艺流体通过所述多个喷孔喷射。

4.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述喷射喷嘴配置为通过喷雾法喷射所述工艺流体。

5.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述工艺流体处理装置还包括气体供应管道，所述气体供应管道配置为供应分解气体，所述分解气体与所述工艺流体中的臭氧反应以促进臭氧的分解。

6.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，所述气体供应管道配置为将包含氧气的气体供应至所述壳体的内部空间中。

7.如权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，所述工艺流体处理装置还包括：

循环管线，所述循环管线具有连接至所述壳体的相对两端，且所述循环管线配置为允许从所述壳体排放的工艺流体再次流入到所述壳体中。

8.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，所述气体供应管道包括下喷射部，所述下喷射部朝向所述壳体的内部空间延伸，并配置为将所述气体喷射至所述壳体的内部空间中所容纳的工艺流体中。

9.如权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，所述下喷射部配置为在浸入所述内部空间中所容纳的所述工艺流体中的状态下喷射所述分解气体。

10.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，所述循环管线在其内具有湍流生成部，以允许流过所述循环管线的工艺流体变为湍流。

11.如权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，所述湍流生成部具有带一个或多个流动孔的板形。

12.如权利要求11所述的基板处理装置，其特征在于，所述流动孔形成为关于所述循环管线的轴向方向倾斜。

13.如权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，所述湍流生成部包括第一板和第二板，所述第一板和所述第二板配置为阻挡所述循环管线内的流动通道的一部分，并定位成关于所述循环管线的轴向方向具有不同的斜度。

14.如权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，所述下喷射部在左/右方向上延伸，并且从其一个或多个位置沿纵向方向喷射所述分解气体。

15.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，在所述循环管线上设有加热器。

16.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，在所述循环管线的一端处设有循环喷嘴，流过所述循环管线的工艺流体通过所述循环喷嘴再次流入到所述壳体中。