[发明专利]一种去除玻璃蚀刻残留物的方法在审
| 申请号： | 201711009958.7 | 申请日： | 2017-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN107737764A | 公开（公告）日： | 2018-02-27 |
| 发明（设计）人： | 赵伟;蔡良照;黄泽魁;郑志智 | 申请（专利权）人： | 信利半导体有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司44102 | 代理人： | 邓义华,廖苑滨 |
| 地址： | 516600 *** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 去除 玻璃 蚀刻 残留物 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种去除玻璃蚀刻残留物的方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1：玻璃蚀刻完成后将蚀刻液排空，其中蚀刻液中含有氢氟酸；
步骤2：用分解剂浸泡玻璃蚀刻器具，直至沉积在玻璃蚀刻器具上的残留物95%以上溶解，所述分解剂为含硫酸铝的溶液。
2.如权利要求1所述去除玻璃蚀刻残留物的方法，其特征在于，所述硫酸铝的浓度为3-16wt%。
3.如权利要求1所述去除玻璃蚀刻残留物的方法，其特征在于，所述玻璃蚀刻器具包括蚀刻槽体和鼓气管。
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