[发明专利]利用平顶纳秒紫外激光拆键合的方法在审
申请号: | 201710992023.9 | 申请日: | 2017-10-23 |
公开(公告)号: | CN107845601A | 公开(公告)日: | 2018-03-27 |
发明(设计)人: | 王承伟;徐海宾;王伟;赵裕兴 | 申请(专利权)人: | 苏州德龙激光股份有限公司;江阴德力激光设备有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 江苏圣典律师事务所32237 | 代理人: | 王玉国 |
地址: | 215021 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 平顶 紫外 激光 拆键合 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种利用平顶纳秒紫外激光拆键合的方法,纳秒紫外激光辐照键合片,分开键合的载体与晶圆。
背景技术
IBM(international business machine,国际商用仪器)公司,提出了减薄半导体衬底的方法(专利号CN 101764047 B)。该专利采用双层键合胶结构,在半导体晶圆衬底上施加粘合层,在载体上施加激光烧蚀粘合层,即释放层,然后将粘合层结合到释放层。虽然释放层吸光度高,但是释放层成本高、黏性差,厚度不到1μm,吸收的激光有限。而粘合层对激光的透过率高,激光可能透过双层键合胶,损伤晶圆。为了避免晶圆损伤,本专利增加了保护层,采用释放层、粘合层和保护层的三层键合胶结构。由于释放层厚度远小于保护层的厚度,因此涂覆到释放层的粘合层,均匀性优于涂覆到保护层的粘合层。
IBM(international business machine,国际商用仪器)公司,提出了激光拆键合方法(专利号CN 104718605 B)。但该专利用到的355nm的二极管泵浦的三倍频YAG激光器,属于固体激光器,激光器产生的光束呈高斯型。激光在谐振腔中振荡,光束自再现,光束形状必须满足亥姆霍兹方程,而厄米高斯函数是赫姆霍兹方程的解。因此激光器出射的光斑,可以用厄米高斯函数表示,激光器出射的光斑通常为基模高斯光束。基模高斯光束经过IBM专利中的反射镜、振镜等元件,光束仍然为高斯分布,这是博伊德和戈登的理论证明过的。由于此性质,高斯光束适合几米以及更远距离的传输。然而,高斯光束具有易损伤键合胶、能量利用率低的缺点。坐标(x,y)和时刻t下,高斯光束的光强I(x,y,t)表示如下,
式中wxG和wyG分别表示高斯光束在x和y方向的腰斑半径,τp表示脉宽,I0G表示峰值光强。光强I(x,y,t)在时间和空间上积分,等于单脉
冲能量Ep,I0G表示如下,
式中πwxGwyG表示高斯光束的腰斑面积。腰斑面积内,集中了高斯光束86.5%的能量,因此单脉冲的加工面积近似等于腰斑面积,加工面积SG表示如下,
如果对高斯光束进行空间整形,使其变为平顶光束,激光单脉冲能量和脉宽不变。平顶光束的光强I0T表示如下,
式中4wxTwyT表示高斯光束的腰斑面积。平顶光束的单脉冲的加工面积表示如下,
若平顶光束的峰值光强等于高斯光束腰斑半径处的光强,即I0T=I0G/e2,则平顶光束和高斯光束的加工面积之比R表示如下,
由上式可知,平顶光束的光斑面积,是高斯光束的369.5%。相同加工面积、单脉冲能量和脉宽下,加工时间与光斑面积成反比,因此加工效率与光斑面积成正比,平顶光束的加工效率比高斯光束高269.5%。
平顶光束除了提高加工效率,还能提高加工的均匀性。高斯光束和平顶光束的分布如图3所示,横轴为归一化的径向位置,即径向位置除以腰斑半径;纵轴是归一化的光强,即光强除以I0G。
归一化的径向位置在-1到1之间,高斯光束出现一个峰,峰值光强是腰斑半径处的7.4倍。高斯光束中的峰,很可能导致加工区域的过度损伤。归一化的径向位置属于(-∞,-1)U(1,+∞),高斯光束的光强弱,难以用于拆键合,该区域内的能量占高斯脉冲的13.5%,这部分能量不仅被浪费掉,而且被键合胶吸收后产生热。平顶光束有效地避免了这两个问题,平顶光束分布均匀,腰斑半径是高斯光束腰斑半径的1.92倍;平顶分布所有的能量都能被充分利用,因此提高了激光能量的利用效率,降低了热影响。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术存在的不足,提供一种利用平顶纳秒紫外激光拆键合的方法,旨在避免键合胶的损伤,改善拆键合质量。
本发明的目的通过以下技术方案来实现:
利用平顶纳秒紫外激光拆键合的方法,特点是:激光以呈平顶分布的光斑辐照于键合片,所述键合片由载体、涂覆至载体的释放层、涂覆至释放层的粘合层、涂覆至晶圆的保护层以及晶圆键合形成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州德龙激光股份有限公司;江阴德力激光设备有限公司,未经苏州德龙激光股份有限公司;江阴德力激光设备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造