[发明专利]铵型ZSM-5纳米片的无模板剂合成方法有效
申请号: | 201710982567.7 | 申请日: | 2017-10-20 |
公开(公告)号: | CN109694085B | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | 周亚新;孔德金;吴历斌;李为 | 申请(专利权)人: | 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司上海石油化工研究院 |
主分类号: | C01B39/38 | 分类号: | C01B39/38;B82Y30/00;B82Y40/00 |
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地址: | 100728 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 铵型 zsm 纳米 模板 合成 方法 | ||
1.一种铵型ZSM-5纳米片的无模板剂合成方法,包括以下步骤:
a)将铝源、水溶解,加入含碳原子个数为0-3的小分子碱M1,形成溶液A;
b)将硅源、水混合均匀后,加溶液A,完毕后加入ZSM-5晶种;
c)向上述碱性合成液中再次加入含碳原子个数为0-3的小分子碱M2,最终合成液的摩尔配比为:H2O/SiO2=3~150,SiO2/Al2O3=20~∞,(M1+M2)/SiO2=0.2~5;
d)将上述混合溶液晶化;
e)晶化结束后经过滤、洗涤、干燥,得到铵型ZSM-5纳米片;
步骤a)中,加入含碳原子个数为0-3的小分子碱M1的摩尔量为M1/SiO2=0.05-1;
步骤c)中,加入含碳原子个数为0-3的小分子碱M2的摩尔量为M2/SiO2=0.15~4;
含碳原子个数为0-3的小分子碱包括选自乙胺、乙二胺、氨水、尿素、正丙胺中的至少一种;
所述ZSM-5晶种的加入量为合成液重量的0.5%~5%。
2.根据权利要求1所述的铵型ZSM-5纳米片的无模板剂合成方法,其特征在于铝源选自异丙醇铝,氧化铝、氢氧化铝、金属铝、铝溶胶、硫酸铝、硝酸铝或氯化铝中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的铵型ZSM-5纳米片的无模板剂合成方法,其特征在于硅源选自氧化硅、硅溶胶、白炭黑、正硅酸乙酯或活性白土中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的铵型ZSM-5纳米片的无模板剂合成方法,其特征在于步骤e)产物中不含有碱金属或碱土金属离子。
5.根据权利要求1所述的铵型ZSM-5纳米片的无模板剂合成方法,其特征在于步骤e)产物焙烧后的固体量为加入固体量的90%以上。
6.根据权利要求1所述的铵型ZSM-5纳米片的无模板剂合成方法,其特征在于,步骤d)中,晶化温度为100~200℃,晶化时间为0.5~240小时。
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