[发明专利]一种TiSiTaN涂层刀具及其制备方法有效
| 申请号: | 201710959302.5 | 申请日: | 2017-10-16 |
| 公开(公告)号: | CN107740052B | 公开(公告)日: | 2019-07-12 |
| 发明(设计)人: | 邢佑强;高俊涛;吴泽;黄鹏;刘磊;张远明 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
| 主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C14/16;C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
| 地址: | 210096 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 涂层刀具 制备 刀具表面 硬质合金 中频磁控溅射 多弧离子镀 抗磨损能力 抗氧化性能 难加工材料 热稳定性能 刀具基体 刀具寿命 刀具制造 多层结构 机械切削 切削加工 干切削 高速钢 过渡层 抗氧化 有效地 切削 刀具 应用 | ||
1.一种TiSiTaN涂层刀具的制备方法,刀具基体材料为高速钢或硬质合金,其特征在于采用多弧离子镀+中频磁控溅射共沉积的方法在刀具表面制备Ti+TiN+TiSiN过渡层和TiSiTaN涂层,其具体制备步骤为:
1)前处理:将刀具基体材料研磨抛光至镜面,依次放入酒精和丙酮中超声清洗,去除表面油渍污染物,采用真空干燥箱充分干燥后迅速放入镀膜机真空室,加热,保温;
2)离子清洗:通入Ar2,其压力为0.6-1.5Pa,开启偏压电源,电压800-900V,占空比0.2,辉光放电清洗20-30min;偏压降低至300-500V,开启离子源离子清洗20-30min,开启电弧源Ti靶,偏压500-600V,靶电流40-60A,离子轰击Ti靶1-2min;
3)沉积Ti:调整Ar2气压至0.4-0.6Pa,偏压降低至100-200V,电弧镀Ti 2-5min;
4)沉积TiN:调整工作气压为0.5-0.6Pa,偏压80-150V,Ti靶电流80-100A;开启N2,调整N2流量为150-200sccm,沉积温度为200-260℃,沉积2-10min;
5)沉积TiSiN:开启中频Si靶电弧电源,电流调至10-20A,电弧镀+中频磁控溅射沉积TiSiN 5-10min;
6)沉积TiSiTaN涂层:开启Ta靶电弧电源,电流调制10-20A,本底真空为7.0×10-3Pa,加热至200-240℃,电弧镀+中频磁控溅射沉积TiSiTaN涂层50-60min;保温时间30-40min;
7)后处理:关闭Si靶、Ti靶和Ta靶,关闭偏压电源、离子源及气体源,保温,涂层结束。
2.根据权利要求1所述的TiSiTaN涂层刀具的制备方法,其特征在于所述放入酒精和丙酮中超声清洗,清洗的时间各为20-30min。
3.根据权利要求1所述的TiSiTaN涂层刀具的制备方法,其特征在于所述后处理的保温时间为30-50min。
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