[发明专利]一种TiSiTaN涂层刀具及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710959302.5 申请日: 2017-10-16
公开(公告)号: CN107740052B 公开(公告)日: 2019-07-12
发明(设计)人: 邢佑强;高俊涛;吴泽;黄鹏;刘磊;张远明 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/16;C23C14/06;C23C14/35
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 210096 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 涂层刀具 制备 刀具表面 硬质合金 中频磁控溅射 多弧离子镀 抗磨损能力 抗氧化性能 难加工材料 热稳定性能 刀具基体 刀具寿命 刀具制造 多层结构 机械切削 切削加工 干切削 高速钢 过渡层 抗氧化 有效地 切削 刀具 应用
【权利要求书】:

1.一种TiSiTaN涂层刀具的制备方法,刀具基体材料为高速钢或硬质合金,其特征在于采用多弧离子镀+中频磁控溅射共沉积的方法在刀具表面制备Ti+TiN+TiSiN过渡层和TiSiTaN涂层,其具体制备步骤为:

1)前处理:将刀具基体材料研磨抛光至镜面,依次放入酒精和丙酮中超声清洗,去除表面油渍污染物,采用真空干燥箱充分干燥后迅速放入镀膜机真空室,加热,保温;

2)离子清洗:通入Ar2,其压力为0.6-1.5Pa,开启偏压电源,电压800-900V,占空比0.2,辉光放电清洗20-30min;偏压降低至300-500V,开启离子源离子清洗20-30min,开启电弧源Ti靶,偏压500-600V,靶电流40-60A,离子轰击Ti靶1-2min;

3)沉积Ti:调整Ar2气压至0.4-0.6Pa,偏压降低至100-200V,电弧镀Ti 2-5min;

4)沉积TiN:调整工作气压为0.5-0.6Pa,偏压80-150V,Ti靶电流80-100A;开启N2,调整N2流量为150-200sccm,沉积温度为200-260℃,沉积2-10min;

5)沉积TiSiN:开启中频Si靶电弧电源,电流调至10-20A,电弧镀+中频磁控溅射沉积TiSiN 5-10min;

6)沉积TiSiTaN涂层:开启Ta靶电弧电源,电流调制10-20A,本底真空为7.0×10-3Pa,加热至200-240℃,电弧镀+中频磁控溅射沉积TiSiTaN涂层50-60min;保温时间30-40min;

7)后处理:关闭Si靶、Ti靶和Ta靶,关闭偏压电源、离子源及气体源,保温,涂层结束。

2.根据权利要求1所述的TiSiTaN涂层刀具的制备方法,其特征在于所述放入酒精和丙酮中超声清洗,清洗的时间各为20-30min。

3.根据权利要求1所述的TiSiTaN涂层刀具的制备方法,其特征在于所述后处理的保温时间为30-50min。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东南大学,未经东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710959302.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top