[发明专利]蒸镀用UV前处理设备

权利要求书

1.一种蒸镀用UV前处理设备，其特征在于，包括：壳体，所述壳体内部具有固化腔室；所述壳体的一端设置有进料口，所述壳体的相对另一端设置有出料口；UV光源，设置于所述固化腔室内部；其中，所述固化腔室内壁设置有吸光层。

2.根据权利要求1所述的蒸镀用UV前处理设备，其特征在于，所述UV光源设置于所述固化腔室的顶面，所述吸光层设置于所述固化腔室的底面及四周。

3.根据权利要求2所述的蒸镀用UV前处理设备，其特征在于，所述固化腔室内设置有基台，所述基台设置于所述固化腔室的底面，所述基台上承载有待UV处理的TFT阵列基板。

4.根据权利要求3所述的蒸镀用UV前处理设备，其特征在于，所述TFT阵列基板包括：

玻璃基板；

遮光层图案，形成于所述玻璃基板表面；

缓冲层，制备于所述玻璃基板表面，且覆盖所述遮光层图案；

TFT器件，设置于所述缓冲层表面，且与所述遮光层图案相对应；

间绝缘层，制备于所述缓冲层表面，且覆盖所述TFT器件；

钝化层，制备于所述间绝缘层表面；

平坦化层，制备于所述钝化层表面；

阳极金属图案，制备于所述平坦化层表面；

其中，所述TFT阵列基板设置有阳极金属图案的一侧靠近所述UV光源。

5.根据权利要求3所述的蒸镀用UV前处理设备，其特征在于，所述固化腔室内设置有遮光板，所述遮光板平行于所述固化腔室底面，所述遮光板的四个端部对应贴合所述固化腔室的四周表面，所述遮光板包括遮光区和位于所述遮光区内的透光区，其中，所述透光区的第一长边的长度等于所述TFT阵列基板的第一长边的长度，所述透光区的第一短边的长度等于所述TFT阵列基板的第一短边的长度。

6.根据权利要求5所述的蒸镀用UV前处理设备，其特征在于，所述固化腔室的四周表面开设有滑槽，所述滑槽垂直于所述固化腔室底面表面，所述遮光板的边缘设置有匹配所述滑槽的固定件，所述固定件滑移连接所述滑槽。

7.根据权利要求5所述的蒸镀用UV前处理设备，其特征在于，所述遮光板的遮光区表面设置有所述吸光层。

8.根据权利要求5所述的蒸镀用UV前处理设备，其特征在于，所述遮光板的遮光区表面设置有可移动至所述透光区的延长板。

9.根据权利要求8所述的蒸镀用UV前处理设备，其特征在于，所述延长板的一端铰接于所述遮光板的遮光区边缘。

10.根据权利要求1-9任一项权利要求所述的蒸镀用UV前处理设备，其特征在于，所述吸光层采用碳纳米管制备。