[发明专利]蒸镀掩膜板、OLED面板及系统及蒸镀监控方法有效
申请号: | 201710910812.3 | 申请日: | 2017-09-29 |
公开(公告)号: | CN109585695B | 公开(公告)日: | 2020-01-24 |
发明(设计)人: | 刘明星;李俊峰;王徐亮;高峰 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L23/544;H01L27/32;H01L21/67;C23C14/04 |
代理公司: | 31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 智云 |
地址: | 215300 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蒸镀 掩膜板 开口 功能区域 监控 监控结构 外围区域 实时在线监控 功能层 观察 | ||
1.一种OLED面板,其特征在于,所述OLED面板包括第二功能区域和位于所述第二功能区域外的第二外围区域,所述第二外围区域上形成有观察层,所述观察层上用于形成监控结构,所述监控结构通过采用一蒸镀掩膜板而形成,所述蒸镀掩膜板包括第一功能区域和位于所述第一功能区域外的第一外围区域,所述第一功能区域具有用于蒸镀形成功能层的第一开口,所述第一外围区域具有用于监控所述第一开口的蒸镀效果的第二开口,所述第一外围区域具有相对的第一边沿和第二边沿,所述第一边沿较所述第二边沿靠近所述第一功能区域;相较于第二边沿,所述第二开口靠近所述第一边沿,所述蒸镀掩膜板的第一开口用于在所述OLED面板的第二功能区域上蒸镀形成功能层,所述蒸镀掩膜板的第二开口用于在所述OLED面板的观察层上蒸镀形成监控结构,所述监控结构用于监控所述第一开口的蒸镀效果。
2.如权利要求1所述的OLED面板,其特征在于,所述观察层的材料为反光材料。
3.如权利要求1或2所述的OLED面板,其特征在于,所述观察层的厚度为100nm~200nm。
4.如权利要求1或2所述的OLED面板,其特征在于,所述第二外围区域的表面和所述第二功能区域的表面的高度差小于等于200nm。
5.如权利要求1所述的OLED面板,其特征在于,所述第二开口的形状和所述第一开口的形状相同。
6.如权利要求1或5所述的OLED面板,其特征在于,所述第二开口的数量为多个,多个所述第二开口均匀的分布于所述第一外围区域。
7.如权利要求6所述的OLED面板,其特征在于,所述蒸镀掩膜板包括掩膜片和用于支撑所述掩膜片的支撑条,所述第一开口和所述第二开口均位于所述掩膜片上,所述支撑条上具有第三开口,所述第三开口仅露出部分数量的所述第二开口。
8.一种OLED面板系统,其特征在于,所述OLED面板系统包括:蒸镀掩膜板及OLED面板,所述蒸镀掩膜板包括第一功能区域和位于所述第一功能区域外的第一外围区域,所述第一功能区域具有用于蒸镀形成功能层的第一开口,所述第一外围区域具有用于监控所述第一开口的蒸镀效果的第二开口,所述第一外围区域具有相对的第一边沿和第二边沿,所述第一边沿较所述第二边沿靠近所述第一功能区域;相较于第二边沿,所述第二开口靠近所述第一边沿;所述OLED面板包括第二功能区域和位于所述第二功能区域外的第二外围区域,所述第二外围区域上形成有观察层,所述观察层上用于形成监控结构,所述监控结构通过采用所述蒸镀掩膜板而形成;所述蒸镀掩膜板位于所述OLED面板的下方,所述蒸镀掩膜板的第一开口用于在所述OLED面板的第二功能区域上蒸镀形成功能层,所述蒸镀掩膜板的第二开口用于在所述OLED面板的观察层上蒸镀形成监控结构,所述监控结构用于监控所述第一开口的蒸镀效果。
9.一种蒸镀监控方法,其特征在于,所述蒸镀监控方法包括:
采用一蒸镀掩膜板在一OLED面板上形成功能层和监控结构,所述蒸镀掩膜板包括第一功能区域和位于所述第一功能区域外的第一外围区域,所述第一功能区域具有用于蒸镀形成功能层的第一开口,所述第一外围区域具有用于监控所述第一开口的蒸镀效果的第二开口,所述第一外围区域具有相对的第一边沿和第二边沿,所述第一边沿较所述第二边沿靠近所述第一功能区域;相较于第二边沿,所述第二开口靠近所述第一边沿,所述OLED面板包括第二功能区域和位于所述第二功能区域外的第二外围区域,所述第二外围区域上形成有观察层,所述观察层上用于形成监控结构,所述监控结构通过采用所述蒸镀掩膜板而形成,所述蒸镀掩膜板的第一开口用于在所述OLED面板的第二功能区域上蒸镀形成功能层,所述蒸镀掩膜板的第二开口用于在所述OLED面板的观察层上蒸镀形成监控结构,所述监控结构用于监控所述第一开口的蒸镀效果;
获取在所述OLED面板上的所述监控结构的实际中心;及
将所述监控结构的实际中心和所述监控结构的理论中心进行对比,以得到所述蒸镀掩膜板的第一开口的蒸镀效果。
10.如权利要求9所述的蒸镀监控方法,其特征在于,当所述监控结构的实际中心和所述监控结构的理论中心位置相同时,通过所述第一开口的蒸镀没有发生偏位;当所述监控结构的实际中心和所述监控结构的理论中心位置不同时,通过所述第一开口的蒸镀发生了偏位。
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