[发明专利]像素界定层及其制备方法、显示基板及其制备方法、显示装置有效
申请号: | 201710908938.7 | 申请日: | 2017-09-29 |
公开(公告)号: | CN107623022B | 公开(公告)日: | 2019-12-20 |
发明(设计)人: | 侯文军 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L21/77 |
代理公司: | 11105 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 彭久云 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 像素 界定 及其 制备 方法 显示 显示装置 | ||
像素界定层及其制备方法、显示基板及其制备方法、显示装置。该像素界定层包括多个像素开口,并且所述像素开口包括长边部分和短边部分,所述长边部分的坡度角大于所述短边部分的坡度角。该像素界定层中具有较大坡度角的长边部分会对墨水的扩散产生较大的阻力,从而墨水更趋向于沿长边方向扩散,使得墨水在像素开口中的分布更加均匀。
技术领域
本公开的实施例涉及一种像素界定层及其制备方法、显示基板及其制备方法、显示装置。
背景技术
有机发光显示装置具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点,因此成为一种重要的显示技术。
目前,有机发光显示装置的有机发光层可以采用喷墨打印的方式形成,而利用喷墨打印法形成有机发光层需要预先在衬底基板上制作像素界定层,以限定墨滴精确的喷入指定的像素区域内。通常,上述像素界定层具有多个开口,在喷墨打印的过程中,喷墨打印的墨水在该开口中的扩散可能不均匀,这将使得在开口的不同位置形成的有机发光层的形态不均匀,由此导致显示装置在发光时其像素区域的亮度不均匀,严重影响有机发光显示装置的显示效果。
发明内容
本公开至少一实施例提供一种像素界定层,该像素界定层包括多个像素开口;其中,所述像素开口包括长边部分和短边部分,并且所述长边部分的坡度角大于所述短边部分的坡度角。
例如,本公开至少一实施例提供的一种像素界定层中,所述像素界定层采用具有疏液性质的材料制备。
例如,本公开至少一实施例提供的一种像素界定层中,所述材料为负性光刻胶。
例如,本公开至少一实施例提供的一种像素界定层中,所述像素界定层包括远离衬底基板一侧的第一像素界定层和靠近衬底基板一侧的第二像素界定层;所述第一像素界定层采用具有疏液性质的材料制备,所述第二像素界定层采用具有亲液性质的材料制备。
例如,本公开至少一实施例提供的一种像素界定层中,所述像素开口呈矩形、平行四边形或梯形。
本公开至少一实施例提供一种显示基板,该显示基板具有多个像素结构,并包括上述任一所述的像素界定层;其中,每个所述像素开口中有所述像素结构。
本公开至少一实施例提供一种显示装置,包括上述显示基板。
本公开至少一实施例提供一种像素界定层的制备方法,包括:在衬底基板上涂覆像素界定层材料;形成所述像素界定层的长边部分;形成所述像素界定层的短边部分;其中,所述长边部分的坡度角大于所述短边部分的坡度角。
例如,本公开至少一实施例提供的一种像素界定层的制备方法中,所述像素界定层材料为具有疏液性质的负性光刻胶,并通过曝光工艺和显影工艺形成所述长边部分和所述短边部分。
例如,本公开至少一实施例提供的一种像素界定层的制备方法中,通过两次曝光工艺分别对所述长边部分和所述短边部分进行曝光。
例如,本公开至少一实施例提供的一种像素界定层的制备方法中,沿所述长边部分的曝光量小于沿所述短边部分的曝光量。
例如,本公开至少一实施例提供的一种像素界定层的制备方法中,利用灰色调掩模或半色调掩模通过一次曝光工艺同时对所述长边部分和所述短边部分进行曝光。
例如,本公开至少一实施例提供的一种像素界定层的制备方法中,所述像素界定层包括:形成于远离所述衬底基板一侧的第一像素界定层和靠近所述衬底基板一侧的第二像素界定层;其中,所述第一像素界定层采用具有疏液性质的材料制备,所述第二像素界定层采用具有亲液性质的材料制备。
本公开至少一实施例提供一种显示基板的制备方法,包括:形成上述任一所述的像素界定层,以及在所述像素界定层的开口内喷墨打印有机材料以形成有机功能层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710908938.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种带凸台的塑料拱盖
- 下一篇:便携式组装定位胶头化妆瓶
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的