[发明专利]像素界定层及其制备方法、显示基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种像素界定层，包括多个像素开口，其中，所述像素开口包括长边部分和短边部分，并且所述长边部分的坡度角大于所述短边部分的坡度角；

所述长边部分和所述短边部分的坡度角差异随所述长边部分和所述短边部分的长度差异的增加而增加。

2.根据权利要求1所述的像素界定层，其中，所述像素界定层采用具有疏液性质的材料制备。

3.根据权利要求2所述的像素界定层，其中，所述材料为负性光刻胶。

4.根据权利要求1所述的像素界定层，其中，所述像素界定层包括远离衬底基板一侧的第一像素界定层和靠近衬底基板一侧的第二像素界定层；

所述第一像素界定层采用具有疏液性质的材料制备，所述第二像素界定层采用具有亲液性质的材料制备。

5.根据权利要求1所述的像素界定层，其中，所述像素开口呈矩形、平行四边形或梯形。

6.一种显示基板，具有多个像素结构，包括权利要求1-5任一所述的像素界定层；

其中，每个所述像素开口中有所述像素结构。

7.一种显示装置，包括权利要求6所述的显示基板。

8.一种像素界定层的制备方法，包括：

在衬底基板上涂覆像素界定层材料；

形成所述像素界定层的长边部分；

形成所述像素界定层的短边部分；其中，

所述长边部分的坡度角大于所述短边部分的坡度角；

所述长边部分和所述短边部分的坡度角差异随所述长边部分和所述短边部分的长度差异的增加而增加。

9.根据权利要求8所述的像素界定层的制备方法，其中，所述像素界定层材料为具有疏液性质的负性光刻胶，并通过曝光工艺和显影工艺形成所述长边部分和所述短边部分。

10.根据权利要求9所述的像素界定层的制备方法，其中，通过两次曝光工艺分别对所述长边部分和所述短边部分进行曝光。

11.根据权利要求10所述的像素界定层的制备方法，其中，沿所述长边部分的曝光量小于沿所述短边部分的曝光量。

12.根据权利要求9所述的像素界定层的制备方法，其中，利用灰色调掩模或半色调掩模通过一次曝光工艺同时对所述长边部分和所述短边部分进行曝光。

13.根据权利要求8所述的像素界定层的制备方法，其中，所述像素界定层包括：

形成于远离所述衬底基板一侧的第一像素界定层和靠近所述衬底基板一侧的第二像素界定层；其中，所述第一像素界定层采用具有疏液性质的材料制备，所述第二像素界定层采用具有亲液性质的材料制备。

14.一种显示基板的制备方法，包括：

形成权利要求1-5任一所述的像素界定层，以及

在所述像素界定层的开口内喷墨打印有机材料以形成有机功能层。

15.根据权利要求14所述的显示基板的制备方法，其中，所述有机功能层为发光层、电子注入层、空穴注入层、电子传输层和空穴传输层中的一种或几种。