[发明专利]一种硅棒生产用表层清洁装置

说明书

技术领域

本发明涉及清洁装置技术领域，具体为一种硅棒生产用表层清洁装置。

背景技术

通常，硅棒被用作半导体装置、太阳能电池、化学加工设备、工业系统、或者小尺寸的和其它高度集成精密装置的重要原料，它们分别由具有高纯度或半导体性能的材料构成，随着硅棒的大量使用，其生产装置也多种多样，但生产装置的清洁工作一直是个难题。

但现有的清洁装置设计的不很合理，装置与外部没有连通，导致吸收的尘粒无法排出，导致装置内的尘粒越积越多，不能定期对尘粒吸附器吸附的尘粒进行清洁，影响后期的清洁工作，在擦拭过程中，不能与基台表面充分接触，使得清洁工作进行的不够全面。

所以，如何设计一种硅棒生产用表层清洁装置，成为我们当前要解决的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种硅棒生产用表层清洁装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种硅棒生产用表层清洁装置，包括装置主体和顶盖，所述装置主体的顶部嵌套有尘粒吸附器，所述装置主体底部固定有外壳，所述外壳的底部紧密连接有细毛丝，所述外壳的内部安装有擦拭器，所述擦拭器的两侧安装有风干器，所述风干器的右侧固定有转轴，所述转轴的左侧安装有传导轴和第一皮带，所述转轴通过第一皮带与传导轴活动连接，所述擦拭器的底部活动连接有弹性板，所述外壳的内部固定连接有滑道，所述滑道的侧面固定连接有运动轨，所述运动轨的侧面嵌套有从动轮，所述从动轮的右侧安装有活动轮和第二皮带，且活动轮与从动轮通过第二皮带活动连接，所述顶盖的上方固定连接有加固柱。

进一步的，所述尘粒吸附器设置有两个，且尘粒吸附器均匀的分布在装置本体的顶部，所述尘粒吸附器与外部相连通。

进一步的，所述顶盖与装置本体位于同一水平线，且顶盖与装置本体边界的形状相适配。

进一步的，所述运动轨的顶部设有稳流器，且所述稳流器与运动轨紧密贴合。

进一步的，所述细毛丝围绕外壳的底部，呈一个完整的“矩形”状。

进一步的，所述弹性板上覆盖着无尘布，且弹性板为凸出结构，并呈“弧形”状。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：该种硅棒生产用表层清洁装置，采用了其他清洁装置的优点，通过尘粒吸附器和弹性板的共同作用下，解决原有清洁装置设计的不够合理的问题，设置的尘粒吸附器与外部相连通，可将吸附的尘粒传送至清洁装置外部，由于清洁装置的体积较小，可以将尘粒吸附器吸附的尘粒传送至清洁装置的外部，这样就不用定期对尘粒吸附器吸附的尘粒进行清洁，将吸收的尘粒排出，且可以进一步的提升清洁效果，设置的弹性板上覆盖无尘布，且弹性板呈“弧形”状，使得清洁装置的底部凸出，这样无尘布覆盖在弹性板上，无尘布在擦拭过程中，可以与基台表面充分接触，提高擦拭效果，当然，所述弹性板还可以为圆片状、方块状等，只要其能形成凸出的平整平面，便于无尘布对基台进行擦拭。

附图说明

图1是本发明的整体结构示意图；

图2是本发明的擦拭器局部结构示意图；

图3是本发明的滑道局部结构示意图。

图中：1、装置主体，101、尘粒吸附器，2、外壳，201、细毛丝，3、顶盖，301、加固柱，4、擦拭器，401、风干器，402、传导轴，403、弹性板，404、第一皮带，405、转轴，5、滑道，501、稳流器，502、从动轮，503、活动轮，504、第二皮带，505、运动轨。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。