[发明专利]OLED显示器的制作方法及OLED显示器

权利要求书

1.一种OLED显示器的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1、提供TFT基板(100)，在所述TFT基板(100)上形成像素定义层(200)；

所述像素定义层(200)上设有多个通孔(210)；所述多个通孔(210)在TFT基板(100)上限定出多个像素区域(101)；

步骤S2、在TFT基板(100)的多个像素区域(101)内分别打印溶液态的导电材料，对溶液态的导电材料进行干燥，形成覆盖像素区域(101)的导电层(300)，该导电层(300)与TFT基板(100)上的像素电极(130)共同构成阳极结构；

步骤S3、在TFT基板(100)的多个像素区域(101)内分别打印溶液态的OLED发光材料，对溶液态的OLED发光材料进行干燥，形成位于导电层(300)上的OLED发光层(400)。

2.如权利要求1所述的OLED显示器的制作方法，其特征在于，还包括：

步骤S4、在像素定义层(200)及OLED发光层(400)上形成阴极层(500)，得到OLED显示器。

3.如权利要求1所述的OLED显示器的制作方法，其特征在于，所述TFT基板(100)包括：TFT阵列层(110)、覆盖于TFT阵列层(110)上的平坦化层(120)、及设于平坦化层(120)上的像素电极(130)；

所述多个通孔(210)均暴露出像素电极(130)。

4.如权利要求3所述的OLED显示器的制作方法，其特征在于，所述像素电极(130)的材料为透明金属氧化物。

5.如权利要求1所述的OLED显示器的制作方法，其特征在于，所述溶液态的导电材料为溶液态的碳纳米银材料、或溶液态的碳纳米材料。

6.一种OLED显示器，其特征在于，包括：

TFT基板(100)；

设于所述TFT基板(100)上的像素定义层(200)，所述像素定义层(200)上设有多个通孔(210)，所述多个通孔(210)在TFT基板(100)上限定出多个像素区域(101)；

于像素区域(101)内设于TFT基板(100)上的导电层(300)；

以及于像素区域(101)内设于导电层(300)上的OLED发光层(400)；

所述导电层(300)通过在TFT基板(100)的多个像素区域(101)内分别打印溶液态的导电材料，并对溶液态的导电材料进行干燥而制得；

所述TFT基板(100)包括：TFT阵列层(110)、覆盖于TFT阵列层(110)上的平坦化层(120)、及设于平坦化层(120)上的像素电极(130)；所述多个通孔(210)均暴露出像素电极(130)，导电层(300)与像素电极(130)共同构成阳极结构。

7.如权利要求6所述的OLED显示器，其特征在于，还包括设于像素定义层(200)及OLED发光层(400)上的阴极层(500)。

8.如权利要求6所述的OLED显示器，其特征在于，所述像素电极(130)的材料为透明金属氧化物。

9.如权利要求6所述的OLED显示器，其特征在于，所述溶液态的导电材料为溶液态的碳纳米银材料、或溶液态的碳纳米材料。