[发明专利]透明导电膜、其制备方法及电容式触摸屏

说明书

本发明提供了一种透明导电膜、其制备方法及电容式触摸屏。该制备方法，包括以下步骤：S1，采用多层同时涂布工艺将包括高折射率材料的第一涂料以及包括低折射率材料的第二涂料同步设置于耐高温基材层的表面，干燥后得到光学调整层，光学调整层包括交替层叠设置的至少一组高折射率材料层和低折射率材料层，耐高温基材层的玻璃转化温度大于120℃，且各相邻依次远离的耐高温基材层的表面设置的第一涂料和第二涂料为一组，各组中的低折射率材料层位于高折射率材料层的远离耐高温基材层的一侧；S2，在光学调整层的表面设置ITO层。采用上述方法缓解了上述立体纹现象，提高了电容式触摸屏的显示效果。

技术领域

本发明涉及光学技术领域，具体而言，涉及一种透明导电膜、其制备方法及电容式触摸屏。

背景技术

市场上用于电容式触摸屏中的透明导电膜除了具有基材和ITO层之外，通常还具有设置于基材两侧的硬化膜以及设置于基材与ITO层之间的光学调整层(IM)，这类硬化膜产品能够满足目前电容式触摸屏的基本需求。随着智能设备市场的迅速扩大及普及电容式触摸屏的品质要求也逐步提高，于此同时，价格竞争也越来愈激烈。

在现有技术中用于电容式触摸屏的透明导电膜中，基材通常为PET材料，然而，PET材料的耐温性较差，从而会影响电容式触摸屏的耐候性，若采用耐温性较高的基材替换现有技术中的PET基材，由于耐温性较高的基材通常具有与硬化膜较大的折射率差，从而会导致透明导电膜出现干涉条纹，上述干涉条纹会影响电容式触摸屏的显示效果；并且，在产品的制备中ITO层的蚀刻是必不可少的，而在蚀刻工艺中，ITO层被蚀刻的纹路会因为基材在加热工序中的收缩而变形，蚀刻凹坑与ITO的反射率差别、色差或凹凸差别变得更加明显从使得而立体纹显露出来。具体地，IM层与ITO层的色差越大，基材的收缩率越大，立体纹也就越明显，从而导致最后做成的触摸屏幕会因为明显的立体纹而严重影响产品的品质。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种透明导电膜、其制备方法及电容式触摸屏，以解决现有技术中透明导电膜难以同时保证电容式触摸屏的耐候性及显示效果的问题。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种透明导电膜的制备方法，包括以下步骤：S1，采用多层同时涂布工艺将包括高折射率材料的第一涂料以及包括低折射率材料的第二涂料同步设置于耐高温基材层的表面，干燥后得到光学调整层，光学调整层包括交替层叠设置的至少一组高折射率材料层和低折射率材料层，耐高温基材层的玻璃转化温度大于120℃，且各相邻依次远离的耐高温基材层的表面设置的第一涂料和第二涂料为一组，各组中的低折射率材料层位于高折射率材料层的远离耐高温基材层的一侧；S2，在光学调整层的表面设置ITO层。

进一步地，在步骤S1中，采用多层同时涂布工艺将多组第一涂料与第二涂料同步设置，至少一组第一涂料中的高折射率材料不同于其他组第一涂料中的高折射率材料，且至少一组第二涂料中的低折射率材料不同于其他组第一涂料中的低折射率材料。

进一步地，光学调整层包括n组高折射率材料层和低折射率材料层，1≤n≤10，优选1≤n≤3。

进一步地，在步骤S1中，多层同时涂布工艺的涂布速度为10～300m/min。

进一步地，采用多层涂布设备实施多层同时涂布工艺，多层涂布设备包括：可旋转的涂布轴，涂布轴用于承载耐高温基材层；涂布模块，涂布模块的上表面为沿靠近涂布轴的方向向下倾斜的滑动面，且涂布模块包括多个涂布头，且各涂布头具有出口的表面构成滑动面，涂布头的出口沿远离涂布轴的方向平行排列，涂布轴的旋转轴与涂布头的排列方向垂直，多层同时涂布工艺实施时，第一涂料以及第二涂料间隔地从不同的涂布头的出口流至滑动面后流动至涂布轴上的耐高温基材层上。

进一步地，滑动面的与水平面的夹角为2～15°。

进一步地，在步骤S1中，干燥的温度为30～250℃。