[发明专利]透明导电膜、其制备方法及电容式触摸屏在审
| 申请号: | 201710893401.8 | 申请日: | 2017-09-27 | 
| 公开(公告)号: | CN109559841A | 公开(公告)日: | 2019-04-02 | 
| 发明(设计)人: | 张国臻;于甄 | 申请(专利权)人: | 张家港康得新光电材料有限公司 | 
| 主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;H01B1/08;H01B13/00;G06F3/044 | 
| 代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 韩建伟;谢湘宁 | 
| 地址: | 215634 江*** | 国省代码: | 江苏;32 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 耐高温基材 电容式触摸屏 光学调整层 涂料 制备 低折射率材料层 高折射率材料层 透明导电膜 表面设置 低折射率材料 多层同时涂布 高折射率材料 玻璃转化 交替层叠 同步设置 显示效果 立体纹 缓解 | ||
1.一种透明导电膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1,采用多层同时涂布工艺将包括高折射率材料的第一涂料以及包括低折射率材料的第二涂料同步设置于耐高温基材层(10)的表面,干燥后得到光学调整层(20),所述光学调整层(20)包括交替层叠设置的至少一组高折射率材料层(220)和低折射率材料层(230),所述耐高温基材层(10)的玻璃转化温度大于120℃,且各相邻依次远离所述的耐高温基材层(10)的表面设置的所述第一涂料和所述第二涂料为一组,各组中的所述低折射率材料层(230)位于所述高折射率材料层(220)的远离所述耐高温基材层(10)的一侧;
S2,在所述光学调整层(20)的表面设置ITO层(30)。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在所述步骤S1中,采用所述多层同时涂布工艺将多组所述第一涂料与所述第二涂料同步设置,至少一组所述第一涂料中的高折射率材料不同于其他组所述第一涂料中的高折射率材料,且至少一组所述第二涂料中的低折射率材料不同于其他组所述第一涂料中的低折射率材料。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述光学调整层(20)包括n组所述高折射率材料层(220)和所述低折射率材料层(230),1≤n≤10,优选1≤n≤3。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在所述步骤S1中,所述多层同时涂布工艺的涂布速度为10~300m/min。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的制备方法,其特征在于,采用多层涂布设备(40)实施所述多层同时涂布工艺,所述多层涂布设备(40)包括:
可旋转的涂布轴(430),所述涂布轴(430)用于承载所述耐高温基材层(10);
涂布模块,
所述涂布模块的上表面为沿靠近所述涂布轴(430)的方向向下倾斜的滑动面(420),且所述涂布模块包括多个涂布头(410),且各所述涂布头(410)具有出口的表面构成所述滑动面(420),所述涂布头(410)的出口沿远离所述涂布轴(430)的方向平行排列,所述涂布轴的旋转轴与所述涂布头的排列方向垂直,
所述多层同时涂布工艺实施时,所述第一涂料以及所述第二涂料间隔地从不同的所述涂布头(410)的出口流至所述滑动面(420)后流动至所述涂布轴(430)上的所述耐高温基材层(10)上。
6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,所述滑动面(420)的与水平面的夹角为2~15°。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在所述步骤S1中,所述干燥的温度为30~250℃。
8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述耐高温基材层(10)为具有结构式A的环烯烃的共聚物层、具有结构式B的环烯烃的聚合物层或PI层,所述结构式A为所述结构式B为n=20~10000。
9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述耐高温基材层(10)的折射率为1.3~1.8。
10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述高折射率材料的折射率为1.6~4.0,优选为1.65~2.8,所述低折射率材料的折射率为1.2~1.5,优选为1.3~1.48。
11.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述ITO层(30)中Sn的含量为1~25wt%,优选为2~15wt%。
12.一种透明导电薄膜,其特征在于,所述透明导电薄膜由权利要求1至11中任一项所述的制备方法制备而成。
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