[发明专利]成像方法、控制序列测定反应的方法、装置及系统

说明书

本发明公开了成像方法、控制序列测定反应的方法、装置及系统。成像方法用于光学检测系统，光学检测系统包括成像装置和承载装置，承载装置包括温控装置和载台，成像装置包括镜头模组，镜头模组包括光轴，载台用于承载样品，温控装置用于调节样品的温度，成像方法包括：在利用成像装置对样品进行图像采集之前或者在利用成像装置对样品进行图像采集时，利用温控装置设定允许样品的温度波动的范围，以使镜头模组沿光轴的位置波动范围位于预设范围内。如此，利用上述成像方法，能够将镜头模组的位置波动范围控制在预设范围内，减少或避免对成像装置进行图像采集时的不利影响。

技术领域

本发明涉及光学检测领域，尤其涉及一种成像方法、一种控制序列测定反应的方法、一种控制装置、一种光学检测系统和一种序列测定系统。

背景技术

序列测定，即测序，包括核酸序列的测定。目前市面上的测序平台包括一代测序平台、二代测序平台和三代测序平台。从功能控制角度，测序仪器包括探测模块，利用探测模块转化和/或收集序列测定中生化反应产生的信息变化，以测定序列。探测模块一般包括光学检测模块、电流检测模块和酸碱(pH)检测模块。基于光学检测原理的测序平台通过分析采集检测到的测序生化反应中的光信号变化来进行序列测定。

在采集光信号的过程中，光学检测模块的镜头模组会发生预期外的位置波动，这种位置波动对光信号的采集带来不利影响。

发明内容

本发明实施方式旨在至少解决相关技术中存在的技术问题之一或者至少提供一种可选择的实用方案。为此，本发明实施方式需要提供一种成像方法、一种控制序列测定反应的方法、一种控制装置、一种光学检测系统和一种序列测定系统。

发明人基于以下发现而产生作出本发明方案的构思：

本领域技术人员能够知晓，在成像、图像/信号采集或者测序的过程中，特别是包含了高精度/高倍数的光学系统的平台，光学检测系统的镜头模组(包括物镜)若发生抖动/波动或者发生的抖动/波动不受控，很可能影响图像的采集，影响信号的获取。

在测序平台上利用成像装置对着反应装置(例如芯片，flow cell)进行追焦时，发明人惊奇地发现，镜头模组(包括物镜)的坐标(定为Z轴方向上的坐标)沿追焦方向(例如芯片的通道方向，定为x方向)的变化曲线(z-x)不符合理论上的线性关系或者近似于线性的关系，呈现出剧烈的局部波动，并且该波动呈现周期性的变化，如图1所示。进一步地，发明人试验，即使不进行追焦即不给镜头模组Z轴方向运动的指令，只将镜头模组对着同一视野进行拍照，镜头模组Z轴方向仍旧周期性波动，如图2所示，周期约为10.4s。更惊奇地，发明人发现该波动的周期与允许反应装置的温度的变化周期非常接近，猜想镜头模组的波动可能与温度的波动有关。一般地，允许反应装置的温度变化的设置是通过与反应装置连接的温控装置进行控制的，例如希望反应装置的温度保持在25℃左右，可通过温控装置设置温度变化范围为[24℃，26℃]，即超出25±1℃，温控装置将调节温度使反应装置的温度维持在上述预设范围。

发明人通过控制温度波动证实验证了上述猜想，例如将温控装置撤掉，沿芯片的一条通道来回进行类似于追焦的行为，镜头模组Z-X波动符合理论上的线性或近似线性的关系，未出现上面所说的周期性波动现象。基于以上关系的发现及证实，发明人提出一种利用控制温度变化来控制镜头模组波动的方案。

本发明实施方式提供一种成像方法，所述成像方法用于光学检测系统，所述光学检测系统包括成像装置和承载装置，所述承载装置包括温控装置和载台，所述成像装置包括镜头模组，所述镜头模组包括光轴，所述载台用于承载样品，所述温控装置用于调节所述样品的温度，所述方法包括：

在利用所述成像装置对所述样品进行图像采集之前或者在利用所述成像装置对所述样品进行图像采集时，利用所述温控装置设定允许所述样品的温度波动的范围，以使所述镜头模组沿所述光轴的位置波动范围位于预设范围内。

本发明实施方式提供一种控制序列测定反应的方法，其利用序列测定系统对所述序列测定反应进行控制，