[发明专利]成像方法、控制序列测定反应的方法、装置及系统

权利要求书

1.一种成像方法，其特征在于，所述方法用于光学检测系统，所述光学检测系统包括成像装置和承载装置，所述成像装置包括镜头模组，所述镜头模组包括光轴，所述承载装置包括温控装置和载台，所述载台用于承载样品，所述温控装置用于调节所述样品的温度，所述方法包括：

在利用所述成像装置对所述样品进行图像采集之前或者在利用所述成像装置对所述样品进行图像采集时，利用所述温控装置设定允许所述样品的温度波动的范围，以使所述镜头模组沿所述光轴的位置波动范围位于预设范围内。

2.一种控制序列测定反应的方法，其特征在于，利用序列测定系统对所述序列测定反应进行控制，

所述序列测定系统包括光学检测系统，所述光学检测系统包括成像装置和承载装置，所述成像装置包括镜头模组，所述镜头模组包括光轴，所述承载装置包括温控装置和载台，所述载台用于承载样品，所述温控装置用于调节所述样品的温度，所述序列测定反应包括利用所述成像装置对所述样品进行图像采集，所述方法包括：

在利用所述序列测定系统进行所述序列测定反应之前或者在利用所述序列测定系统进行所述序列测定时，利用所述温控装置设定允许所述样品的温度波动的范围，以使所述镜头模组沿所述光轴的位置波动范围位于预设范围内。

3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述光学检测系统预设有允许所述样品的温度波动的范围与所述镜头模组沿所述光轴的位置波动范围的对应关系，根据所述对应关系，控制所述镜头模组沿所述光轴的位置波动范围位于所述预设范围内。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述对应关系包括：

当设定允许所述样品的温度波动的范围为±10℃，所述镜头模组沿所述光轴的位置波动范围±8微米；

当设定允许所述样品的温度波动的范围为±5℃，所述镜头模组沿所述光轴的位置波动范围为±4微米；

当设定允许所述样品的温度波动的范围为±1.5℃，所述镜头模组沿所述光轴的位置波动范围为±1微米；

当设定允许所述样品的温度波动的范围为±0.5℃，所述镜头模组沿所述光轴的位置波动范围为±0.5微米。

5.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述成像装置包括对焦模组，利用所述成像装置对所述样品进行图像采集，包括：利用所述对焦模组和所述镜头模组对所述样品进行对焦。

6.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，利用所述成像装置对所述样品进行图像采集，包括：利用所述镜头模组对所述样品进行追焦。

7.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述对焦包括步骤：

利用所述对焦模组发射光至置于所述载台上的所述样品上；

使所述镜头模组沿所述光轴移动到第一设定位置；

使所述镜头模组从所述第一设定位置以第一设定步长沿所述光轴向所述样品移动并判断所述对焦模组是否接收到由所述样品反射的所述光；

在所述对焦模组接收到由所述样品反射的所述光时，使所述镜头模组以小于所述第一设定步长的第二设定步长沿所述光轴移动并利用所述成像装置对所述样品进行图像采集，并判断所述成像装置所采集到的图像的锐度值是否达到设定阈值；

在所述图像的锐度值达到所述设定阈值时，保存所述镜头模组的当前位置作为保存位置。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述对焦模组包括光源和光传感器，所述光源用于发射所述光到所述样品上，所述光传感器用于接收由所述样品反射的所述光。