[发明专利]一种显示装置的亮度缺陷检测方法与装置有效

专利信息
申请号: 201710846527.X 申请日: 2017-09-18
公开(公告)号: CN107657606B 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 史超超 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;G06T7/13;G06T7/136;G06T7/187;G06T7/194
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 钟子敏
地址: 518000 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示装置 亮度 缺陷 检测 方法 装置
【说明书】:

发明公开了一种显示装置的亮度缺陷检测方法与装置。该方法包括如下步骤:输入第一图像;检测第一图像的点状缺陷,并对点状缺陷进行补偿以得到第二图像;检测第二图像的线状缺陷,并对线状缺陷进行补偿以得到第三图像;检测第三图像的块状缺陷;将第一图像的点状缺陷、第二图像的线状缺陷以及第三图像的块状缺陷整合,以得到亮度缺陷检测结果。本发明公开了一种显示装置的亮度缺陷检测方法与装置,通过检测点状缺陷与线状缺陷,使用缺陷临近像素值填充缺陷,减少点状缺陷与线状缺陷对块状缺陷检测的影响,提高了块状缺陷检测的准确性,同时还提高了检测的多样性与准确性,克服了单一类型的亮度缺陷检测。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种显示装置的亮度缺陷检 测方法与装置。

背景技术

亮度缺陷是薄膜晶体管-液晶显示器(TFT-LCD)上一种典型的低对 比度缺陷,一般表现为可被人眼感知,没有固定形状,对比度低、尺寸 通常大于单个像素、形状各异、无明显边缘、图像背景复杂,因此被列 为显示器缺陷中最难检测的缺陷之一。亮度缺陷呈现形式可以分为3种: 点状缺陷、线状缺陷和其他不规则的块状缺陷。

目前国内LCD制造业中对于亮度缺陷的检测大多数都停留在人工 检测阶段,这种方法检测时间长,高成本,主观性强,稳定性不高,严 重制约生产线生产效率。因此,快速、稳定且符合人眼视觉特性的自动 低对比度缺陷检测、分级方法重要性不言而喻。

发明内容

本发明主要解决的问题是提供了一种显示装置的亮度缺陷检测方 法与装置,通过对点状缺陷和线状缺陷进行填充,能够改善块状缺陷的 准确性,系统克服单一类型亮度缺陷检测。

解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是提供一种显示装 置的亮度缺陷检测方法,该方法包括:输入第一图像;检测所述第一图 像的点状缺陷,并对所述点状缺陷进行补偿以得到第二图像;检测所述 第二图像的线状缺陷,并对所述线状缺陷进行补偿以得到第三图像;检 测所述第三图像的块状缺陷;将所述第一图像的点状缺陷、所述第二图 像的线状缺陷以及所述第三图像的块状缺陷整合,以得到亮度缺陷检测 结果。

解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是提供一种显示装 置的亮度缺陷检测装置,包括输入输出装置、存储器以及处理器。其中, 所述存储器用于存储计算机程序,所述计算机程序在被所述处理器执行 时,用于实现上述的方法。

通过上述方案,本发明的有益效果是:提供一种显示装置的亮度缺 陷检测方法,该方法包括:输入第一图像;检测所述第一图像的点状缺 陷,并对所述点状缺陷进行补偿以得到第二图像;检测所述第二图像的 线状缺陷,并对所述线状缺陷进行补偿以得到第三图像;检测所述第三 图像的块状缺陷;将所述第一图像的点状缺陷、所述第二图像的线状缺 陷以及所述第三图像的块状缺陷整合,以得到亮度缺陷检测结果。通过 上述方式,能够检测点状缺陷与线状缺陷,使用缺陷临近像素值填充缺 陷,减少点状缺陷与线状缺陷对块状缺陷检测的影响,提高了块状缺陷 检测的准确性,同时还提高了检测的多样性与准确性,克服了单一类型 的亮度缺陷检测。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描 述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图 仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出 创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。其中:

图1是本发明提供的显示装置的亮度缺陷检测方法一实施例流程示 意图;

图2是本发明提供的显示装置的亮度缺陷检测方法一实施例中第一 图像和第二图像的示意图;

图3是本发明提供的显示装置的亮度缺陷检测方法另一实施例的流 程示意图;

图4是本发明提供的显示装置的亮度缺陷检测方法另一实施例的滤 波模板示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710846527.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top