[发明专利]低成本多面校准VR头显姿态方法

说明书

技术领域

本发明属于虚拟装置技术领域，尤其涉及一种低成本多面校准VR头显姿态方法。

背景技术

目前，虚拟现实头戴式显示设备，简称VR头显，是一种利用头戴式显示设备。常用的对VR头显的姿态校准方法中，多数以单面校准为主：通过消偏差法消除零偏。但此法不适合加入有地磁融合的情况，因为还要加入磁校准。磁校准引入则增加校准复杂度，常用的多面校准方法，多数使用机械臂或者更加精准的测量治具，对于大批量生产的需求，无异于增加了生产和维护成本。

因此，现有技术有待于改善。

发明内容

本发明的主要目的在于提出一种低成本多面校准VR头显姿态方法，旨在降低现有技术中对于VR头显的多面校准的成本，通过更简单操作实现多面校准。

为实现上述技术效果，本发明的低成本多面校准VR头显姿态方法，包括步骤：

步骤S10，将VR头显固定在内部可固定所述VR头显的方体内；

步骤S20，在水平平面上对所述方体操作，以校准所述VR头显内陀螺仪四个相互垂直的方向；

步骤S30，在可转动360度的水平平台上对所述方体操作，以校准所述VR头显内地磁传感器的地磁场的正北方向。

优选地，将方体的六个面分别定义为前面、后面、左面、右面、顶面和底面，其特征在于，所述步骤S20包括步骤：

步骤S21，将所述方体的底面作为与所述水平平面接触的面，并将方体放置在所述水平平面之上，定义陀螺仪的第一方向；

步骤S22，将所述方体的左面或者右面作为与所述水平平面接触的面，并将所述方体放置在所述水平平面之上，定义所述陀螺仪的第二方向；

步骤S23，将所述方体的前面作为与所述水平平面接触的面，并将所述方体放置在所述水平平面之上，定义所述陀螺仪的第三方向；

步骤S24，将所述方体的后面作为与所述水平平面接触的面，并将所述方体放置在所述水平平面之上，定义所述陀螺仪的第四方向。

优选地，所述步骤S30包括步骤：

步骤S31，将所述方体的底面作为与所述水平平台接触的面，将所述方体固定在所述水平平台上，校准所述地磁传感器的第一地磁方向；

步骤S32，将所述方体的左面或者右面作为与所述水平平台接触的面，将所述方体固定在所述水平平台上，校准所述地磁传感器的第二地磁方向；

步骤S33，将所述方体的前面或者后面作为与所述水平平台接触的面，将所述方体固定在所述水平平台上，校准所述地磁传感器的第三地磁方向；

步骤S34，根据所述第一、第二和第三地磁方向计算并校准所述地磁传感器的正北方向。

优选地，所述方体为内部铣有与所述VR头显外形适配的型腔，所述VR头显可卡在所述型腔中。

优选地，在所述步骤S20中，通过与所述VR头显连接的终端对所述VR头显的校准进行控制。

优选地，所述方体包括至少一个透明面。

本发明提供的低成本多面校准VR头显姿态方法，通过将需要校准的VR头显固定在方体内部，并在水平平面上对方体进行操作，完成四面校准，然后再将方体固定在可旋转360度的平台上进行地磁场方向校准。与现有技术的利用机械臂或高精度冶具对VR头显进行多面校准相比，本发明所需要用到的器具结构简单，成本低，且是经过四面校准以及地磁方向校准，校准精度高而且操作步骤简单。且本发明提供的校准姿态方法适合校准AR和MR头显，通用性高。

附图说明

图1为本发明第一实施例的流程示意图；

图2为本发明实施例中的步骤S20的细化步骤的流程示意图；

图3为本发明实施例中的步骤S30的细化步骤的流程示意图。

本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

参考图1，图1为本发明第一实施例的流程示意图。

如图1所示，本发明的低成本多面校准VR头显姿态方法，包括步骤：

步骤S10，将VR头显固定在内部可固定所述VR头显的方体内；

在步骤S10中，方体为长方体或者正方体，内部可固定VR头显，将所需要校准的VR头显固定在方体内，避免了不规则的VR头显怎么放置也无法水平和垂直的问题。

步骤S20，在水平平面上对所述方体操作，以校准所述VR头显内陀螺仪四个相互垂直的方向；