[发明专利]低成本多面校准VR头显姿态方法在审

专利信息
申请号: 201710840346.6 申请日: 2017-09-18
公开(公告)号: CN107860383A 公开(公告)日: 2018-03-30
发明(设计)人: 石庆;张治宇;钟景维;马保军;崔新亮 申请(专利权)人: 深圳市亿境虚拟现实技术有限公司
主分类号: G01C21/16 分类号: G01C21/16;G01C21/20;G01C25/00
代理公司: 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙)44248 代理人: 孙伟
地址: 518000 广东省深圳市宝安*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 低成本 多面 校准 vr 姿态 方法
【权利要求书】:

1.一种低成本多面校准VR头显姿态方法,其特征在于,包括步骤:

步骤S10,将VR头显固定在内部可固定所述VR头显的方体内;

步骤S20,在水平平面上对所述方体操作,以校准所述VR头显内陀螺仪四个相互垂直的方向;

步骤S30,在可转动360度的水平平台上对所述方体操作,以校准所述VR头显内地磁传感器的地磁场的正北方向。

2.如权利要求1所述低成本多面校准VR头显姿态方法,其特征在于,将方体的六个面分别定义为前面、后面、左面、右面、顶面和底面,所述步骤S20包括步骤:

步骤S21,将所述方体的底面作为与所述水平平面接触的面,并将方体放置在所述水平平面之上,定义陀螺仪的第一方向;

步骤S22,将所述方体的左面或者右面作为与所述水平平面接触的面,并将所述方体放置在所述水平平面之上,定义所述陀螺仪的第二方向;

步骤S23,将所述方体的前面作为与所述水平平面接触的面,并将所述方体放置在所述水平平面之上,定义所述陀螺仪的第三方向;

步骤S24,将所述方体的后面作为与所述水平平面接触的面,并将所述方体放置在所述水平平面之上,定义所述陀螺仪的第四方向。

3.如权利要求1所述低成本多面校准VR头显姿态方法,其特征在于,所述步骤S30包括步骤:

步骤S31,将所述方体的底面作为与所述水平平台接触的面,将所述方体固定在所述水平平台上,校准所述地磁传感器的第一地磁方向;

步骤S32,将所述方体的左面或者右面作为与所述水平平台接触的面,将所述方体固定在所述水平平台上,校准所述地磁传感器的第二地磁方向;

步骤S33,将所述方体的前面或者后面作为与所述水平平台接触的面,将所述方体固定在所述水平平台上,校准所述地磁传感器的第三地磁方向;

步骤S34,根据所述第一、第二和第三地磁方向计算并校准所述地磁传感器的正北方向。

4.如权利要求1所述低成本多面校准VR头显姿态方法,其特征在于,所述方体为内部铣有与所述VR头显外形适配的型腔,所述VR头显可卡在所述型腔中。

5.如权利要求1所述低成本多面校准VR头显姿态方法,其特征在于,在所述步骤S20中,通过与所述VR头显连接的终端对所述VR头显的校准进行控制。

6.如权利要求1所述低成本多面校准VR头显姿态方法,其特征在于,所述方体包括至少一个透明面。

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