[发明专利]用于基材的真空涂覆的盒式涂覆装置

说明书

用于基材的真空涂覆的盒式涂覆装置，包括包含蒸发源和基材保持件的真空腔室，基材保持件形成面对蒸发源且可绕轴线转动的圆顶件。遮掩组合件位于其间，用于相对于蒸发源部分遮蔽基材保持件上的基材。遮掩组合件包括在真空腔室中静止的固定遮掩部分和承载分配至基材保持件上的基材的用于形成渐变遮掩件的渐变遮护件的多个渐变扇区部分。渐变扇区部分可绕轴线在渐变遮掩件打开与关闭位置之间转动，打开位置中，渐变扇区部分储存在固定遮掩部分后面，关闭位置中，渐变扇区部分在蒸发源与基材保持件之间像扇子一样展开。根据本发明，具有或不具有屏蔽效果的真空涂覆步骤都可以更高效的方式执行。

技术领域

本发明总地涉及一种用于基材的真空涂覆的盒式涂覆装置。特别地，本发明涉及一种用于眼镜镜片坯料的真空涂覆的盒式涂覆装置，该装置将用于所谓的“渐变镜片”的大规模生产中。渐变镜片是一种镜片类型，这种镜片例如出于美观的原因而涂覆有色彩，以使得单独的镜片在镜片的顶部处较暗，沿镜片向下，则颜色变亮直至颜色在镜片上不再可见。

背景技术

为了获得渐变镜片，已提出(使用)屏蔽件，屏蔽件遮蔽基材面积的相对于蒸发坩锅待涂覆的区域，以使得基材的位于屏蔽件的阴影或半影中的区域比暴露的区域不那么强烈地被蒸汽涂覆。

在本文中，文件US 7,311,939 B2公开了一种用于同时涂覆真空腔室中的多个基材的真空涂覆单元。已知的真空涂覆单元包括蒸发坩锅、基材保持件和转动驱动件，蒸发坩锅限定垂直对称轴线，基材保持件形成为圆顶件，该圆顶件置于蒸发坩锅上方且具有下侧构造来以径向相等的间隔在围绕蒸发坩锅的垂直对称轴线的基材环上保持多个基材并相对于圆顶件静止，转动驱动件则用于驱动圆顶件绕对称轴线转动，由此基材在圆形路径上绕对称轴线运动。

为了在涂覆期间在基材上获得层厚度或颜色变化，已知的真空涂覆单元还具有位于真空腔室中蒸发坩锅与基材保持件之间的遮掩组合件(masking arrangement)，用于相对于蒸发坩锅部分地遮蔽由基材保持件保持的基材。更确切地，该遮掩组合件包括由屏蔽件形成的至少一个连续的、即闭合的圆形孔环，考虑到从蒸发坩锅至基材保持件的蒸发，该圆形孔环与相应的基材环相关联且关于对称轴线周向设置在形成在位于蒸发坩锅与圆顶件之间的圆锥内。因而，该孔环作用于装配至圆上的基材保持件的一组基材。

在该现有技术中，进一步提出要通过改变孔环离基材保持件的距离来改变基材上的涂覆区域与部分涂覆区域之间和其他区域之间的过渡部。孔环越接近于基材定位，过渡部就变得越清晰。为了能够将过渡部配置成更为柔和或更为生硬，在该现有技术中设置为，基材保持件与孔环之间的距离可在垂直方向上、即平行于对称轴线进行调整。为此，在真空腔室内部设置有用于孔环的垂直驱动件，该垂直驱动件可由控制器致动。

虽然在该现有技术中预见到在涂覆操作期间也致动用于孔环的垂直驱动件，但孔环总是保持在蒸发坩锅与基材保持件之间且由此总是向至少一部分基材提供遮蔽效果。因而，要在该涂覆单元中执行的不具有屏蔽效果以完全作用于面对蒸发坩锅的基材的整个面积的任何进一步涂覆步骤，诸如抗反射(AR)涂覆步骤等，需要释放真空腔室中的真空并打开真空腔室以移除孔环，之后才可再次关闭真空腔室，从而形成用于期望的无屏蔽涂覆步骤的真空。然而，该步骤是耗时的且由此不期望在眼镜镜片的批量生产中进行的。

发明内容

由此，以例如由文献US 7,311,939 B2所呈现的现有技术为基础，本发明的目的在于创建一种用于特别是眼镜镜片坯料的基材的真空涂覆的盒式涂覆装置，其中，具有或不具有用于层厚度或颜色渐变的屏蔽效果的真空涂覆步骤都可以更高效的方式执行，以使得该盒式涂覆装置尤其适于部署在渐变眼镜镜片的大规模生产的框架内。

该目的由本发明的主要特征来实现。本发明的优势或有利的进展是本发明的附加特征。