[发明专利]电子封装件及其制法在审

专利信息
申请号: 201710825762.9 申请日: 2017-09-14
公开(公告)号: CN109390292A 公开(公告)日: 2019-02-26
发明(设计)人: 赖杰隆;卢俊宏;林谷彦;连黛祯 申请(专利权)人: 矽品精密工业股份有限公司
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L23/498;H01L21/56
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 中国台湾台中*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 调整件 电子封装件 承载件 封装层 制法 包覆 翘曲 移除
【说明书】:

一种电子封装件及其制法,其设置至少一电子元件与至少一调整件于一承载件上,且该调整件位于对应该电子元件的至少任两侧面的位置,再形成封装层于该承载件上以包覆该电子元件与调整件,之后移除该承载件,以通过该调整件的设置而减少该封装层的使用量,进而降低该电子封装件发生翘曲的机率。

技术领域

发明有关一种半导体结构,尤指一种半导体封装结构及其制法。

背景技术

随着电子产业的蓬勃发展,电子产品也逐渐迈向多功能、高性能的趋势。为了满足半导体封装件微型化(miniaturization)的封装需求,扇出(Fan-Out)型的线路结构应用越来越普及,进而发展出晶圆级封装(Wafer Level Packaging,简称WLP)的技术,此技术经常使用封装胶体(molding compound)包覆晶片,再制作扇出型的线路重布层(Redistribution layer,简称RDL),以电性连接该晶片。

如图1A至图1D,其为现有晶圆级半导体封装件1的制法的剖面示意图。

如图1A所示,提供一具有热化离型胶层(thermal release tape)11的承载件10。

接着,置放多个半导体元件12于该热化离型胶层11上,且该些半导体元件12具有相对的主动面12a与非主动面12b,其中,该主动面12a具有多个电极垫120,并以该主动面12a黏着于该热化离型胶层11上。

如图1B所示,以模压(molding)方式形成一封装胶体13于该热化离型胶层11上,以包覆该半导体元件12。

如图1C所示,进行烘烤制程以硬化该封装胶体13,且同时该热化离型胶层11因受热后会失去黏性,再一并移除该热化离型胶层11与该承载件10,以外露该半导体元件12的主动面12a。

如图1D所示,进行扇出型的线路重布层(RDL)制程,其形成一线路部14于该封装胶体13与该半导体元件12的主动面12a上,令该线路部14电性连接该半导体元件12的电极垫120。接着,形成一绝缘保护层15于该线路部14上,且该绝缘保护层15外露该线路部14的部分表面,以供结合如焊锡凸块的导电元件16。之后进行切单制程。

然而,当晶片设计越来越薄而晶圆尺寸越做越大时,若将晶片布设成重置构造(reconstruction)(也就是晶圆切单后,将晶片重新排设成长条状或晶圆状,如图1A所示)后制作扇出型线路结构,该封装胶体13在平面(xy轴)方向展开的面积将越来越大,致使热膨胀系数(Coefficient of thermal expansion,简称CTE)乘上大面积而放大的收缩/膨胀值也相对增加,造成封装结构容易产生翘曲(warpage)问题。

具体地,现有半导体封装件1的制法中,由于该半导体元件12与该封装胶体13热膨胀系数(CTE)不匹配(mismatch),因而容易发生热应力不均匀的情况,致使热循环(thermalcycle)时,造成该封装胶体13翘曲,如图1D’所示,致使该线路部14与该半导体元件12的电极垫120间的对位产生偏移。故而,当该承载件10的尺寸越大时,各该半导体元件12间的位置公差亦随之加大,而当翘曲过大时,将使该线路部14无法与该电极垫120连接,也就是对该线路部14与该半导体元件12间的电性连接造成极大影响,甚至造成导电元件16损坏(如图1D’所示的破裂处),因而造成良率过低及产品可靠度不佳等问题。

因此,如何克服上述现有技术的种种问题,实已成目前亟欲解决的课题。

发明内容

鉴于上述现有技术的种种缺失,本发明提供一种电子封装件及其制法,能降低电子封装件发生翘曲的机率。

本发明的电子封装件,包括:封装层;电子元件,其具有多个侧面且嵌埋于该封装层中;以及调整件,其嵌埋于该封装层中并与该电子元件分离设置,其中,该调整件对应位于该电子元件的至少二侧面之处,且该调整件的外形呈中空形、类L形或类I字形。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于矽品精密工业股份有限公司,未经矽品精密工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710825762.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top