[发明专利]一种彩膜基板及其制备方法、显示面板和显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体地，涉及一种彩膜基板及其制备方法、显示面板和显示装置。

背景技术

随着显示技术的发展，人们对于显示产品彩色画面品质的要求越来越高。彩色画面的品质与显示产品彩膜基板的品质息息相关。

彩膜基板通常包括彩膜层和黑矩阵，彩膜基板与阵列基板对合后，黑矩阵对应阵列基板上的开关管及信号走线分布区域。目前的黑矩阵由于高阻技术尚不成熟，黑矩阵本身的电阻偏低，这使得黑矩阵容易与阵列基板上对应区域的导电膜层之间形成电容，从而导致黑矩阵与对应区域的导电膜层之间累积一定量的电荷，造成显示产品在显示时出现残像或黑白云显示不均匀等电学不良。

因此，如何避免黑矩阵电阻偏低所导致的显示产品电学不良已成为目前亟待解决的问题。

发明内容

本发明针对现有技术中存在的上述技术问题，提供一种彩膜基板及其制备方法、显示面板和显示装置。该彩膜基板通过在黑矩阵的背对基底的一侧设置绝缘层，能够在黑矩阵与阵列基板之间形成绝缘隔设，以防止电阻较低的黑矩阵与阵列基板上对应区域的导电膜层之间形成电容，从而防止黑矩阵与阵列基板上对应区域的导电膜层之间积累电荷，进而避免采用该彩膜基板的显示产品在显示时出现残像或黑白云显示不均匀等电学不良，提升显示产品的显示效果。

本发明提供一种彩膜基板，包括基底，所述基底包括像素区域和所述像素区域之间的间隔区域，所述像素区域设置有彩膜层，所述间隔区域设置有黑矩阵，所述间隔区域还设置有绝缘层，所述绝缘层位于所述黑矩阵的背对所述基底的一侧，且所述绝缘层在所述基底上的正投影完全覆盖所述黑矩阵，以防止所述黑矩阵与阵列基板之间形成电容。

优选地，所述绝缘层的阻抗在10¹³Ω*cm量级以上。

优选地，所述绝缘层采用与所述彩膜层相同的材料。

优选地，所述绝缘层与所述彩膜层的背对所述基底的一侧表面平齐。

本发明还提供一种显示面板，包括上述彩膜基板。

本发明还提供一种显示装置，包括上述显示面板。

本发明还提供一种上述彩膜基板的制备方法，包括：在基底的像素区域形成彩膜层；在所述像素区域之间的间隔区域形成黑矩阵，还包括：在所述间隔区域形成绝缘层，所述绝缘层形成于所述黑矩阵的背对所述基底的一侧，且所述绝缘层在所述基底上的正投影完全覆盖所述黑矩阵，以防止所述黑矩阵与阵列基板之间形成电容。

优选地，所述绝缘层与最后形成的一层所述彩膜层采用相同材料且同时形成。

优选地，形成所述绝缘层包括：在所述基底上涂敷形成绝缘层膜；

固化所述绝缘层膜；

对所述绝缘层膜进行湿法刻蚀，然后进行热烘烤，以形成所述绝缘层的图形和最后一层所述彩膜层的图形。

优选地，形成所述绝缘层包括：在所述基底上涂敷形成绝缘层膜；

固化所述绝缘层膜；

采用射频溅射的方法对所述绝缘层膜进行干刻，然后进行清洗，以形成所述绝缘层的图形和最后一层所述彩膜层的图形。

本发明的有益效果：本发明所提供的彩膜基板，通过在黑矩阵的背对基底的一侧设置绝缘层，能够在黑矩阵与阵列基板之间形成绝缘隔设，以防止电阻较低的黑矩阵与阵列基板上对应区域的导电膜层之间形成电容，从而防止黑矩阵与阵列基板上对应区域的导电膜层之间积累电荷，进而避免采用该彩膜基板的显示产品在显示时出现残像或黑白云显示不均匀等电学不良，提升显示产品的显示效果。

本发明所提供的显示面板，通过采用上述彩膜基板，提升了该显示面板的品质和显示效果。

本发明所提供的显示装置，通过采用上述显示面板，提升了该显示装置的品质和显示效果。

附图说明

图1为本发明实施例1中彩膜基板的结构俯视示意图；

图2为图1中的彩膜基板沿AA剖切线的结构剖视图；

图3为本发明实施例1中形成黑矩阵、红色彩膜层和绿色彩膜层的彩膜基板的结构俯视示意图；

图4为本发明实施例1中完成步骤S01的彩膜基板的结构俯视图；

图5为图4中的彩膜基板沿BB剖切线的结构剖视图；

图6为本发明实施例1中完成步骤S03的彩膜基板的结构俯视图；

图7为图6中的彩膜基板沿CC剖切线的结构剖视图。

其中的附图标记说明：

1.基底；11.像素区域；12.间隔区域；2.彩膜层；21.红色彩膜层；22.绿色彩膜层；23.蓝色彩膜层；3.黑矩阵；4.绝缘层；40.绝缘层膜。