[发明专利]一种彩膜基板及其制备方法、显示面板和显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板，包括基底，所述基底包括像素区域和所述像素区域之间的间隔区域，所述像素区域设置有彩膜层，所述间隔区域设置有黑矩阵，其特征在于，所述间隔区域还设置有绝缘层，所述绝缘层位于所述黑矩阵的背对所述基底的一侧，且所述绝缘层在所述基底上的正投影完全覆盖所述黑矩阵，以防止所述黑矩阵与阵列基板之间形成电容。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述绝缘层的阻抗在10¹³Ω*cm量级以上。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述绝缘层采用与所述彩膜层相同的材料。

4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述绝缘层与所述彩膜层的背对所述基底的一侧表面平齐。

5.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-4任意一项所述的彩膜基板。

6.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求5所述的显示面板。

7.一种如权利要求1-4任意一项所述的彩膜基板的制备方法，包括：在基底的像素区域形成彩膜层；在所述像素区域之间的间隔区域形成黑矩阵，其特征在于，还包括：在所述间隔区域形成绝缘层，所述绝缘层形成于所述黑矩阵的背对所述基底的一侧，且所述绝缘层在所述基底上的正投影完全覆盖所述黑矩阵，以防止所述黑矩阵与阵列基板之间形成电容。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述绝缘层与最后形成的一层所述彩膜层采用相同材料且同时形成。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，形成所述绝缘层包括：在所述基底上涂敷形成绝缘层膜；

固化所述绝缘层膜；

对所述绝缘层膜进行湿法刻蚀，然后进行热烘烤，以形成所述绝缘层的图形和最后一层所述彩膜层的图形。

10.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，形成所述绝缘层包括：在所述基底上涂敷形成绝缘层膜；

固化所述绝缘层膜；

采用射频溅射的方法对所述绝缘层膜进行干刻，然后进行清洗，以形成所述绝缘层的图形和最后一层所述彩膜层的图形。