[发明专利]显示基板及其制造方法和显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括：衬底基板和位于所述衬底基板上的第一电极和第二电极，所述第二电极位于所述第一电极的远离所述衬底基板的一侧，第一电极和所述第二电极之间设置有像素界定层和发光功能层，所述像素界定层限定出像素区域，与所述像素区域对应位置设置有凹陷结构，所述发光功能层位于所述像素区域中，所述发光功能层的靠近所述衬底基板一侧的结构位于所述凹陷结构中。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括绝缘层，所述绝缘层位于所述第一电极的靠近所述衬底基板的一侧；

所述凹陷结构位于所述绝缘层的与所述像素区域对应位置。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述凹陷结构的中间位置的深度大于边缘位置的深度。

4.根据权利要求1至3所述的显示基板，其特征在于，所述凹陷结构的表面为弧面。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述发光功能层包括多个子发光功能层，靠近所述第一电极设置的所述子发光功能层的靠近所述衬底基板一侧的结构位于所述凹陷结构中。

6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述多个子发光功能层分别为依次设置的空穴注入层、空穴传输层、电致发光层、电子传输层和电子注入层，所述空穴注入层靠近所述第一电极设置，所述空穴注入层的靠近所述衬底基板一侧的部分结构位于所述凹陷结构中。

7.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述子发光功能层的各个位置的厚度的差值范围为0nm至100nm。

8.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述子发光功能层的各个位置的厚度相同。

9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至8任一所述的显示基板。

10.一种显示基板的制造方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成第一电极；

在所述第一电极的远离所述衬底基板的一侧形成像素界定层，所述像素界定层限定出像素区域，与所述像素区域对应位置设置有凹陷结构；

在所述像素区域中形成发光功能层，所述发光功能层的靠近所述衬底基板一侧的部分结构位于所述凹陷结构中。

11.根据权利要求10所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成第一电极之前包括：

在所述衬底基板之上形成绝缘层，所述绝缘层位于所述第一电极的靠近所述衬底基板的一侧；

在所述绝缘层上形成所述凹陷结构，所述凹陷结构位于所述绝缘层的与所述像素区域对应位置。

12.根据权利要求11所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述在衬底基板之上形成绝缘层之前还包括：在所述衬底基板之上形成薄膜晶体管，所述绝缘层位于所述薄膜晶体管之上；

所述在所述绝缘层上形成凹陷结构的同时还包括：在所述绝缘层上形成过孔，所述第一电极通过所述过孔和所述薄膜晶体管连接。