[发明专利]一种阵列基板及其制作方法和显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，包括衬底基板，以及设置于所述衬底基板上的栅线和数据线，所述栅线和数据线限定出多个像素区域，其特征在于，所述像素区域中设置有漫反射层，所述漫反射层的朝向所述阵列基板的出光侧的表面凹凸不平。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括：用于为所述阵列基板的薄膜晶体管遮挡背光的遮光层，所述漫反射层与所述遮光层同层同材料设置。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述漫反射层在所述衬底基板上的正投影与对应的像素区域在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括：设置于所述衬底基板上的绝缘层，所述绝缘层设置在所述漫反射层的靠近所述衬底基板的一侧，所述绝缘层的朝向所述漫反射层的一侧的表面凹凸不平。

5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述漫反射层采用的材料包括Ag、Au、Mo、Al和Cu中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述漫反射层包括板状结构、条状结构和矩阵排列的块状结构中的至少一种。

7.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，用于制作如权利要求1-6任一项所述的阵列基板，所述制作方法包括：

形成位于像素区域内的漫反射层，所述漫反射层的朝向所述阵列基板的出光侧的表面凹凸不平。

8.根据权利要求7所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述形成位于像素区域内的漫反射层的步骤包括：

形成金属膜层；

在所述金属膜层上形成光刻胶层；

对所述光刻胶层进行曝光和显影，形成光刻胶层图形，所述光刻胶层图形至少包括第一图形，所述第一图形与用于设置所述漫反射层的区域对应；

去除未被所述光刻胶层图形覆盖的金属膜层，形成金属膜层图形；

采用等离子工艺对所述光刻胶层图形进行轰击，使得所述光刻胶层图形被灰化，并继续对所述金属膜层图形进行轰击，使得所述金属膜层图形的表面凹凸不平，所述金属膜层图形包括漫反射层的图形；

剥离剩余的光刻胶。

9.根据权利要求7所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，

所述形成位于像素区域内的漫反射层的步骤之前还包括：

形成绝缘层；

采用等离子工艺对所述绝缘层进行轰击，形成表面凹凸不平的绝缘层；

其中，所述形成位于像素区域内的漫反射层的步骤包括：

形成金属膜层；

在所述金属膜层上形成光刻胶层；

对所述光刻胶层进行曝光和显影，形成光刻胶层图形，所述光刻胶层图形至少包括第一图形，所述第一图形与用于设置所述漫反射层的区域对应；

去除未被所述光刻胶层图形覆盖的金属膜层，形成表面凹凸不平的金属膜层的图形，所述金属膜层的图形包括漫反射层的图形；

剥离剩余的光刻胶。

10.根据权利要求8或9所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述光刻胶层图形还包括第二图形，所述第二图形与用于设置为所述阵列基板的薄膜晶体管遮挡背光的遮光层的区域对应，形成的金属膜层图形还包括遮光层的图形。

11.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-6任一项所述的阵列基板。