[发明专利]一种含有ZIF‑8的混合基质膜及其制备和应用

权利要求书

1.一种含有ZIF-8的混合基质膜，其特征在于：该混合基质膜的基质膜材料为有机聚合物，填料为纳米颗粒ZIF-8；其中ZIF-8在混合基质膜中的质量分数为10～80％，其余为有机聚合物；混合基质膜的厚度为0.2～5μm。

2.根据权利要求1所述的混合基质膜，其特征在于：所述的有机聚合物为聚乙二醇甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯或聚乙二醇二丙烯酸酯。

3.根据权利要求2所述的有机聚合物，其特征在于：所述的聚乙二醇二丙烯酸酯的平均分子量为400～3400。

4.一种制备如权利要求1所述的混合基质膜的方法，其具体步骤如下：

a)首先将ZIF-8纳米颗粒溶解于溶剂中，充分搅拌分散；

b)称取所需质量的有机聚合物，向步骤a)中的溶液中加入一部分有机聚合物和光引发剂，分散均匀，再将剩余的有机聚合物全部加入到溶液中，

完全分散均匀；并将溶液处于N₂的吹扫下，去除多余的溶剂，然后脱泡处理；

c)将步骤b)得到的溶液涂在PAN超滤膜上，控制厚度，紫外光固化，然后浸泡在与步骤a)相同的溶剂中；

d)真空烘箱中脱出膜中的残留溶剂。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于：步骤(a)中所述的溶剂为甲苯、氯仿、乙醇或N-甲基吡咯烷酮。

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于：步骤(b)中所述的一部分聚合物为占所需质量的有机聚合物质量的5％～20％。

7.根据权利要求4所述的方法，其特征在于所述的光引发剂为光引发剂184、光引发剂2959、安息香二甲醚或光引发剂1173；光引发剂加入量为占所需质量的有机聚合物质量的0.1～1％。

8.根据权利要求4所述的方法，其特征在于：步骤(c)中光固化时间为2～30min。

9.根据权利要求4所述的方法，其特征在于：步骤(d)中所述的真空干燥过程采用两步过程，首先在30～60℃下真空干燥12～36h，然后温度升到70～100℃真空干燥12～36h。

10.一种如权利要求1所述的混合基质膜在丙烯-丙烷混合气体分离中的应用。