[发明专利]一种基于超像素分割的图像处理方法及系统有效

专利信息
申请号: 201710756910.6 申请日: 2017-08-29
公开(公告)号: CN107665493B 公开(公告)日: 2020-07-14
发明(设计)人: 詹肇楷 申请(专利权)人: 成都西纬科技有限公司
主分类号: G06T7/11 分类号: G06T7/11;G06T11/40
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 安卫静
地址: 610000 四川省成*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 像素 分割 图像 处理 方法 系统
【说明书】:

发明公开了一种基于超像素分割的图像处理方法及系统,该方法通过对提供的引导图进行超像素分割,形成第一超像素图像掩膜,然后将超像素图像掩膜合成到一待填充图像,在待填充图像上产生由超像素形成的第一分割,根据第一分割,以单个超像素为单位,对所述待填充图像的中的空洞区域进行填充。超像素能够很好的附着于图像的边界,保证同一个像素中的像素值基本一致,使得填充出来的值也具有一致性,让最后的处理图像达到较好的处理效果。

技术领域

本发明涉及数字图像处理领域,尤其涉及一种基于超像素分割的图像处理方法及系统。

背景技术

随着照相技术的越来越发达,对图像的处理技术也要求越来越高;图像处理技术是运用计算机对图像进行分析,以达到所需结果的一种技术;而区域填充方法则是图像处理技术中一种常用的技术,该技术常被用于图像空洞区域填充。

区域填充方法在对图像空洞区域填充的过程中,常常会面临空洞区域填充不准的情况;传统的区域填充的方法为:对空洞区域中每一个像素所在的行上进行往左往右的搜索;获取空洞区域的左右边界像素;找到两个边界像素后根据边界的两个像素估计空洞区域的值,通常是取两个像素值的平均值。但是这种做法往往会使边界区域填充不准确,使得最后得到的图像达不到想要的效果。所以,为了达到更好的图像处理效果,就需要一种更合适处理空洞区域的方法。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种基于超像素分割的图像处理方法及系统,解决了空洞边界区域填充不准确的问题。

本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:一种基于超像素分割的图像处理方法,该方法的步骤如下:

提供一待填充图像以及所述待填充图像的引导图,其中,所述待填充图像根据所述引导图生成,所述待填充图像中存在空洞区域;

对所述引导图进行超像素分割,形成第一超像素图像掩膜;

将所述第一超像素图像掩膜合成到所述待填充图像,在所述待填充图像上产生由超像素形成的第一分割;

根据所述第一分割,以单个超像素为单位,对所述待填充图像的中的空洞区域进行填充。

所述的超像素个数的计算公式如下:

M=(W×H)/S;

其中W表示待处理图像的宽度,H表示待处理图像的高度。

所述的超像素分割方法包括线性迭代聚类方法和基于能量驱动采样超像素提取方法。

所述空洞区域的填充方法的步骤如下:

判断当前超像素中是否包含有空洞区域;

如果包含有空洞区域,则对当前超像素中非空洞区域像素的进行统计,决定填充像素值,将所述填充像素值赋给位于当前超像素空洞区域内的所有像素;

如果不包含有空洞区域就转到下一个超像素再次判断是否有空洞区域;

当所有空洞区域均消除后,完成填充。

所述的空洞区域为图像进行超像素分割后边界像素不一致的区域。

所述的像素不一致包括颜色不一致、亮度不一致和纹理结构不一致。

在一个实施例中所述方法还包括:

对所述引导图进行超像素分割,形成第二超像素图像掩膜,其中,所述第二超像素图像掩膜的超像素设置大小小于所述第一超像素图像掩膜;

将所述第二超像素图像掩膜合成到所述待填充图像,在所述待填充图像上产生由超像素形成的第二分割;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都西纬科技有限公司,未经成都西纬科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710756910.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top