[发明专利]柔性显示面板的制作方法及柔性显示面板

权利要求书

1.一种柔性显示面板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1、提供一柔性衬底基板(1)，并在所述柔性衬底基板(1)上沉积光阻层(2)；

步骤S2、对所述光阻层(2)进行图案化处理，形成多个相互间隔的光阻区域(20)，相邻两个光阻区域(20)之间形成通孔(21)；

步骤S3、以所述光阻区域(20)作为掩膜，对所述柔性衬底基板(1)进行挖槽处理，在所述通孔(21)的对应的位置形成多个相互平行的衬底凹槽(11)；

步骤S4、在光阻区域(20)及柔性衬底基板(1)上沉积金属薄膜并做图案化处理，形成覆盖所述光阻区域(20)的金属层(31)、及分别嵌入所述多个相互平行的衬底凹槽(11)内的多个金属图案(32)；

每一金属图案(32)包括扫描线(321)、及与所述扫描线(321)连接的多个栅极(322)；

步骤S5、剥离所述光阻区域(20)以去除光阻区域(20)及光阻区域(20)上的金属层(31)；

步骤S6、在柔性衬底基板(1)与各个嵌入衬底凹槽(11)内的金属图案(32)上制作出呈阵列式排布的多个TFT(T)，并在所述呈阵列式排布的多个TFT(T)上沉积OLED发光元件(D)。

2.如权利要求1所述的柔性显示面板的制作方法，其特征在于，所述通孔(21)的侧边与光阻区域(20)下表面的夹角(a)为钝角，与光阻区域(20)上表面的夹角(b)为锐角。

3.如权利要求2所述的柔性显示面板的制作方法，其特征在于，所述通孔(21)的截面呈等腰梯形，且等腰梯形的下底大于上底。

4.如权利要求1至3任一项所述的柔性显示面板的制作方法，其特征在于，所述衬底凹槽(11)的深度为300-3000nm。

5.如权利要求4所述的柔性显示面板的制作方法，其特征在于，所述衬底凹槽(11)的截面呈矩形。

6.如权利要求1至3任一项所述的柔性显示面板的制作方法，其特征在于，所述金属图案(32)的厚度与所述衬底凹槽(11)的深度一致。

7.如权利要求1所述的柔性显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S6包括：

在所述柔性衬底基板(1)与金属图案(32)上沉积栅极绝缘层(51)；

在所述栅极绝缘层(51)上沉积半导体有源层(52)；

沉积金属薄膜并做图案化处理，形成分别接触所述半导体有源层(52)两侧的源极(531)、与漏极(532)；所述栅极(322)、半导体有源层(52)、源极(531)、与漏极(532)构成TFT(T)；

依次沉积层间绝缘层(54)、平坦层(55)、及阳极(57)；所述阳极(57)通过贯穿层间绝缘层(54)与平坦层(55)的过孔(V)连接TFT(T)的漏极(532)；

在所述平坦层(55)、及阳极(57)上形成图案化的像素隔离层(56)，所述像素隔离层(56)覆盖部分所述平坦层(55)、及阳极(57)；

在所述像素隔离层(56)界定出的区域内依次沉积有机发光层(58)、及阴极(59)，所述阳极(57)、有机发光层(58)、与阴极(59)构成OLED发光元件(D)。

8.一种柔性显示面板，其特征在于，包括：

柔性衬底基板(1)，所述柔性衬底基板(1)具有多个相互平行的衬底凹槽(11)；

分别嵌入所述多个相互平行的衬底凹槽(11)内的多个金属图案(32)，每一金属图案(32)包括扫描线(321)、及与所述扫描线(321)连接的多个栅极(322)；

设在所述柔性衬底基板(1)与各个金属图案(32)上的呈阵列式排布的多个TFT(T)；

以及设在所述呈阵列式排布的多个TFT(T)上的OLED发光元件(D)。

9.如权利要求8所述的柔性显示面板，其特征在于，所述衬底凹槽(11)的深度为300-3000nm，截面呈矩形。

10.如权利要求9所述的柔性显示面板，其特征在于，所述金属图案(32)的厚度与所述衬底凹槽(11)的深度一致。