[发明专利]光刻胶树脂溶液、其制备方法及其保存方法在审
| 申请号： | 201710707035.2 | 申请日： | 2017-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN109407465A | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 钱晓春;胡春青;葛庆余 | 申请（专利权）人： | 常州强力电子新材料股份有限公司;常州强力先端电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/038 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 韩建伟;梁文惠 |
| 地址： | 213011 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻胶树脂 稳定剂 抗氧剂 阻聚剂 应用 制备 保存稳定性 光刻胶溶液 负面影响 刻胶树脂 光刻胶 保存 刻蚀 溶剂 | ||
1.一种光刻胶树脂溶液，包括溶剂和光刻胶树脂，其特征在于，所述光刻胶树脂溶液还包括稳定剂，所述稳定剂为抗氧剂或阻聚剂。
2.根据权利要求1所述的光刻胶树脂溶液，其特征在于，所述稳定剂的用量为所述溶剂和所述光刻胶树脂总质量的0.001～0.10％。
3.根据权利要求2所述的光刻胶树脂溶液，其特征在于，所述稳定剂的用量为所述溶剂和所述光刻胶树脂总质量的0.01～0.03％。
4.根据权利要求1所述的光刻胶树脂溶液，其特征在于，所述光刻胶树脂具有以下结构式：
其中，R1、R2、R3和R4各自独立地表示氢原子、C1-C5的烷基、卤原子和苯基中的任意一种；R5表示H原子或甲基；A表示羰基、-CH2-、-SO2-、-C(CH3)2-、-O-、-S-、9,9-芴基和9，9-咔唑基中的任意一种；X表示饱和四羧酸残基；Y1和Y2各自独立表示H原子和-OC-(COOH)m饱和羧酸基团中的任意一种，其中m为1、2或3，n为1～20中的任意一个整数。
5.根据权利要求1或4所述的光刻胶树脂溶液，其特征在于，所述稳定剂选自对苯醌、甲基氢醌、对羟基苯甲醚、2-叔丁基对苯二酚、2,5-二叔丁基对苯二酚中的一种或几种的混合物。
6.根据权利要求1所述的光刻胶树脂溶液，其特征在于，所述光刻胶树脂与所述溶剂的重量比为45：55～55：45。
7.根据权利要求1所述的光刻胶树脂溶液，其特征在于，所述光刻胶树脂溶液包括稀释剂。
8.根据权利要求7所述的光刻胶树脂溶液，其特征在于，所述光刻胶树脂溶液中的固含量为1～5％，优选所述稀释剂为丙二醇甲醚乙酸酯。
9.一种权利要求1至8中任一项所述的光刻胶树脂溶液的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
在20～30℃下，向溶剂和光刻胶树脂的混合液中添加稳定剂和可选的稀释剂，并以100～300转/分钟的转速搅拌1～5h，得到所述光刻胶树脂溶液。
10.一种权利要求1至8中任一项所述的光刻胶树脂溶液的保存方法，其特征在于，所述光刻胶树脂溶液在-10～5℃下保存。
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