[发明专利]偏振膜的制造方法和制造装置

说明书

技术领域

本发明涉及由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的方法和制造装置。

背景技术

偏振板被广泛用作液晶显示装置等图像显示装置中的偏振元件等。作为偏振板，通常呈现在偏振膜的单面或两面使用粘接剂等贴合透明树脂膜(保护膜等)而成的构成。

偏振膜主要通过下述工艺来制造：实施使由聚乙烯醇系树脂构成的原卷料膜浸渍于含有碘等二色性色素的染色浴中的处理，接着使其浸渍于含有硼酸等交联剂的交联浴中的处理等，并且，在上述任意阶段中将膜进行单轴拉伸。单轴拉伸包括：在空气中进行拉伸的干式拉伸、以及在上述染色浴和交联浴等液体中进行拉伸的湿式拉伸。

偏振膜由于进行了交联，因此被加热时容易收缩，有时存在耐久性不充分的情况。另外，为了提高光学特性而增大拉伸倍率时，容易发生收缩，有时存在耐久性不充分的情况。日本特开2013-148806号公报(专利文献1)的记载中提供了一种硼含量为低至1～3.5重量％的含量从而耐久性优异的偏振膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2013-148806号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而，对于偏振膜而言，若降低硼含量，则无法得到充分的交联度，有时光学特性降低。本发明的目的在于提供一种偏振膜的制造方法及其制造装置，其能够在偏振膜的制造方法中得到光学特性和耐久性均优异的偏振膜。

用于解决课题的方法

本发明提供以下所示的偏振膜的制造方法和制造装置。

〔1〕一种偏振膜的制造方法，其为由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的方法，上述偏振膜的制造方法包括：

染色工序，用二色性色素对上述聚乙烯醇系树脂膜进行染色处理；

交联工序，用交联剂对上述染色工序后的上述聚乙烯醇系树脂膜进行交联处理；

电磁波照射工序，对上述交联工序后的上述聚乙烯醇系树脂膜照射包含红外线的电磁波；和

高湿处理工序，将照射上述电磁波后的上述聚乙烯醇系树脂膜曝露于绝对湿度为80g/m³以上的气氛。

〔2〕如〔1〕所述的偏振膜的制造方法，其中，在上述电磁波照射工序与上述高湿处理工序之间还包括对上述聚乙烯醇系树脂膜进行清洗的清洗工序。

〔3〕如〔1〕或〔2〕所述的偏振膜的制造方法，其中，上述电磁波照射工序中，上述电磁波中的波长超过2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为总辐射能量的25％以上。

〔4〕如〔1〕～〔3〕中任一项所述的偏振膜的制造方法，其中，上述电磁波照射工序中，上述电磁波的照射热量相对于上述聚乙烯醇系树脂膜的单位体积为100J/cm³以上且50kJ/cm³以下。

〔5〕如〔1〕～〔4〕中任一项所述的偏振膜的制造方法，其中，上述高湿处理工序中，将上述聚乙烯醇系树脂膜单轴拉伸至1.04～1.2倍。

〔6〕一种偏振膜的制造装置，其为由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的制造装置，上述偏振膜的制造装置具备：

染色部，用二色性色素对上述聚乙烯醇系树脂膜进行染色处理；

交联部，用交联剂对上述染色处理后的上述聚乙烯醇系树脂膜进行交联处理；

电磁波照射部，对上述交联处理后的上述聚乙烯醇系树脂膜照射包含红外线的电磁波；和

高湿处理部，将照射上述电磁波后的上述聚乙烯醇系树脂膜曝露于绝对湿度为80g/m³以上的气氛。

发明的效果

根据本发明，可以提供能够得到光学特性和耐久性均优异的偏振膜的偏振膜制造方法和制造装置。

附图说明

图1为示意性地示出本发明的偏振膜的制造方法和其中使用的偏振膜制造装置的一例的截面图。

图2为示出每种电磁波照射器的辐射能谱的图。

具体实施方式

<偏振膜的制造方法>