[发明专利]偏振膜的制造方法和制造装置在审
| 申请号： | 201710701567.5 | 申请日： | 2017-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN107765353A | 公开（公告）日： | 2018-03-06 |
| 发明（设计）人： | 田中阳祐;古谷勉;权容铉;朴重万 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;C08J7/00;C08J3/28;C08J3/24;D06P3/58;C08L29/04 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 葛凡 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 偏振 制造 方法 装置 | ||
1.一种偏振膜的制造方法，其为由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的方法，所述偏振膜的制造方法包括：
染色工序，用二色性色素对所述聚乙烯醇系树脂膜进行染色处理；
交联工序，用交联剂对所述染色工序后的所述聚乙烯醇系树脂膜进行交联处理；
电磁波照射工序，对所述交联工序后的所述聚乙烯醇系树脂膜照射包含红外线的电磁波；和
高湿处理工序，将照射所述电磁波后的所述聚乙烯醇系树脂膜曝露于绝对湿度为80g/m3以上的气氛。
2.如权利要求1所述的偏振膜的制造方法，其中，
在所述电磁波照射工序与所述高湿处理工序之间还包括对所述聚乙烯醇系树脂膜进行清洗的清洗工序。
3.如权利要求1或2所述的偏振膜的制造方法，其中，
所述电磁波照射工序中，所述电磁波中的波长超过2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为总辐射能量的25％以上。
4.如权利要求1～3中任一项所述的偏振膜的制造方法，其中，
所述电磁波照射工序中，所述电磁波的照射热量相对于所述聚乙烯醇系树脂膜的单位体积为100J/cm3以上且50kJ/cm3以下。
5.如权利要求1～4中任一项所述的偏振膜的制造方法，其中，
所述高湿处理工序中，将所述聚乙烯醇系树脂膜单轴拉伸至1.04～1.2倍。
6.一种偏振膜的制造装置，其为由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的制造装置，所述偏振膜的制造装置具备：
染色部，用二色性色素对所述聚乙烯醇系树脂膜进行染色处理；
交联部，用交联剂对所述染色处理后的所述聚乙烯醇系树脂膜进行交联处理；
电磁波照射部，对所述交联处理后的所述聚乙烯醇系树脂膜照射包含红外线的电磁波；和
高湿处理部，将照射所述电磁波后的所述聚乙烯醇系树脂膜曝露于绝对湿度为80g/m3以上的气氛。
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