[发明专利]一种阻隔膜

权利要求书

1.一种阻隔膜，其特征在于，所述阻隔膜由基材层和阻隔层组成，所述阻隔层包括第一阻隔层和第二阻隔层，所述阻隔层在紫外光固化作用下分层得到第一阻隔层和第二阻隔层，所述第一阻隔层在基材层的上表面，第二阻隔层在第一阻隔层的上表面；

所述基材层的材料为PVDF；

在制备过程中，所述阻隔层的材料先配置成涂布液，所述涂布液包括：25-26％的全氢聚硅氮烷，2.8-3％的有机聚硅氮烷，1.2-1.5％的纳米填料，1％的光固化剂，68.5-70％的溶剂，所述百分比为重量百分比。

2.根据权利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述阻隔膜在非真空的条件下制备。

3.根据权利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述基材层为透明高分子薄膜。

4.根据权利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述基材层的厚度为50-150μm，第一阻隔层的厚度为100-500nm，第二阻隔层的厚度为50-200nm。

5.根据权利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述纳米填料选自二氧化硅粒子、PMMA粒子、PBMA粒子、或二氧化钛粒子中的一种或至少两种的组合。

6.根据权利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述第一阻隔层的厚度为200-300nm，所述第二阻隔层的厚度为100-150nm。