[发明专利]一种光模块有效
申请号: | 201710687160.1 | 申请日: | 2017-08-11 |
公开(公告)号: | CN107621676B | 公开(公告)日: | 2020-06-26 |
发明(设计)人: | 张亮 | 申请(专利权)人: | 深圳市迅特通信技术有限公司;江西迅特通信技术有限公司 |
主分类号: | G02B6/42 | 分类号: | G02B6/42 |
代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 胡海国 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区桃源街道*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 模块 | ||
1.一种光模块,其特征在于,包括:发光源(11)、光电接收器(12)、合成芯片(13)和光接口(14);其中,
所述合成芯片(13)分别与所述发光源(11)和所述光电接收器(12)相连接;所述发光源(11)和所述光电接收器(12)分别与所述光接口(14)相连接;
所述光电接收器(12)包括光电探测器(121)和输入放大器(122);其中,所述光电探测器(121)将接收到的光信号转换成电信号,并通过所述光电探测器(121)的输出端将所述电信号传输至所述输入放大器(122),所述输入放大器(122)电连接至限幅放大器(132);
所述光电探测器(121)为横向PiN结构GeSn光电探测器,所述GeSn光电探测器包括:
Si衬底(101);
Ge外延层(102),所述Ge外延层(102)设置于所述Si衬底(101)上,所述Ge外延层(102)包括水平方向依次排列的N型掺杂区(1021)、i型区(1022)和P型掺杂区(1023);
GeSn层(103),设置在所述i型区(1022)表面;
金属电极(104),一端分别连接所述N型掺杂区(1021)和所述P型掺杂区(1023),另一端连接至所述输入放大器(122);
SiO2钝化层(105),设置于所述Ge外延层(102)和所述GeSn层(103)的表面;
所述Ge外延层(102)包括晶化Ge籽晶层和晶化Ge主体层;其中,所述晶化Ge籽晶层设置于所述Si衬底(101)上表面,所述晶化Ge主体层设置于所述晶化Ge籽晶层上表面;
所述晶化Ge籽晶层和所述晶化Ge主体层是经过LRC工艺晶化处理后形成的;其中,
所述LRC工艺晶化的参数包括:激光波长为808nm,激光光斑尺寸10mm×1mm,激光功率为1.5kW/cm2,激光移动速度为25mm/s;所述LRC工艺之前,在Ge主体层上形成有SiO2保护层,所述LRC工艺后去除SiO2保护层;
所述Ge籽晶层的厚度为40~50nm,所述Ge主体层的厚度为250nm,所述SiO2保护层的厚度为150nm。
2.根据权利要求1所述的光模块,其特征在于,所述合成芯片(13)包括驱动器(131)、限幅放大器(132)和处理器(133);其中,所述驱动器(131)分别与所述发光源(11)、所述处理器(133)相连接,所述限幅放大器(132)分别与所述光电接收器(12)、所述处理器(133)相连接,所述处理器(133)分别与所述驱动器(131)、所述限幅放大器(132)相连接。
3.根据权利要求1所述的光模块,其特征在于,所述发光源(11)的负端连接所述合成芯片(13),所述发光源(11)的正端连接直流电源。
4.根据权利要求1所述的光模块,其特征在于,所述金属电极(104)包括正电极(1041)和负电极(1042);其中,所述正电极(1041)的一端连接所述P型掺杂区(1023),所述正电极(1041)的另一端连接至所述输入放大器(122);所述负电极(1042)一端连接所述N型掺杂区(1021),另一端连接至所述输入放大器(122)。
5.根据权利要求1所述的光模块,其特征在于,所述GeSn层(103)的源气体为SnCl4和GeH4;其中,所述SnCl4和所述GeH4气体流量比为0.95~0.99。
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