[发明专利]显示基板及其制造方法和显示装置有效
| 申请号： | 201710686624.7 | 申请日： | 2017-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN107452758B | 公开（公告）日： | 2020-05-15 |
| 发明（设计）人： | 班圣光;曹占锋;姚琪;薛大鹏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/12 | 分类号： | H01L27/12;H01L21/84 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 汪源;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示 及其 制造 方法 显示装置 | ||
1.一种显示基板，其特征在于，包括衬底基板和位于所述衬底基板上的金属原子层、遮光层和薄膜晶体管，所述遮光层位于所述金属原子层的远离所述衬底基板的一侧，所述薄膜晶体管位于所述遮光层的远离所述衬底基板的一侧。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述金属原子层包括分散设置的金属原子。
3.根据权利要求1或2所述的显示基板，其特征在于，所述金属原子的材料包括Au、Ag、Cu、Pt或者Al。
4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述金属原子的材料为Cu。
5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述遮光层的材料为半导体材料。
6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述遮光层的厚度为至
7.一种显示装置，其特征在于，包括相对设置的对置基板和权利要求1至6任一所述的显示基板。
8.一种显示基板的制造方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上形成金属原子层、遮光层和薄膜晶体管，所述遮光层位于所述金属原子层的远离所述衬底基板的一侧，所述薄膜晶体管位于所述遮光层的远离所述衬底基板的一侧。
9.根据权利要求8所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述薄膜晶体管包括有源层、栅极和源漏极；
所述在衬底基板上形成金属原子层、遮光层和薄膜晶体管包括：
在衬底基板上依次形成第一缓冲层和金属原子层；
在金属原子层之上依次形成遮光材料层、第二缓冲材料层和第一有源材料层；
对所述第一有源材料层进行晶化处理形成第二有源材料层；
对遮光材料层、第二缓冲层和第二有源材料层进行构图工艺，形成金属原子层、遮光层和有源层；
在有源层上形成源漏极，所述源漏极和有源层连接；
在所述源漏极的上方形成栅极。
10.根据权利要求8所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述金属原子层包括分散设置的金属原子。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
