[发明专利]有机电致发光显示面板及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201710676370.0 申请日: 2017-08-09
公开(公告)号: CN107706209B 公开(公告)日: 2019-06-25
发明(设计)人: 李松杉 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰;武岑飞
地址: 430070 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 有机 电致发光 显示 面板 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种有机电致发光显示面板,其特征在于,包括:

基板;

薄膜晶体管,设置于所述基板上;

底电极,设置于所述薄膜晶体管的漏极上;

遮光层,设置于所述底电极上,所述遮光层中具有第一过孔,所述第一过孔暴露所述底电极;

像素限定层,设置于所述薄膜晶体管、所述底电极和所述遮光层上,所述像素限定层具有第二过孔,所述第二过孔的孔径大于所述第一过孔的孔径,且所述第二过孔完全暴露所述第一过孔;

有机电致发光材料层,设置于所述底电极上,所述有机电致发光材料层的边沿设置于所述遮光层上;

顶电极,设置于所述有机电致发光材料层上。

2.根据权利要求1所述的有机电致发光显示面板,其特征在于,所述第二过孔的中心轴与所述第一过孔的中心轴重合。

3.根据权利要求1所述的有机电致发光显示面板,其特征在于,所述遮光层由不透明的且绝缘的富硅氧化物或富硅氮化物制成。

4.根据权利要求1所述的有机电致发光显示面板,其特征在于,所述像素限定层由聚甲基丙烯酸甲酯或聚酰亚胺制成。

5.根据权利要求1所述的有机电致发光显示面板,其特征在于,所述薄膜晶体管包括:

多晶硅层,设置于所述基板上,所述多晶硅层包括未掺杂层、分别设置于所述未掺杂层两侧的重掺杂层及设置于所述重掺杂层和所述未掺杂层之间的轻掺杂层;

栅极绝缘层,设置于所述多晶硅层和所述基板上;

栅极,设置于所述栅极绝缘层上且位于所述多晶硅层上;

层间绝缘层,设置于所述栅极和所述栅极绝缘层上;

第三过孔和第四过孔,分别贯穿所述层间绝缘层和所述栅极绝缘层;

源极和漏极,设置于所述层间绝缘层上,所述源极和所述漏极分别通过所述第一过孔和所述第二过孔与对应的所述重掺杂层接触;

平坦层,设置于所述层间绝缘层、所述源极和所述漏极上;

第五过孔,贯穿所述平坦层,以将所述漏极暴露。

6.根据权利要求5所述的有机电致发光显示面板,其特征在于,所述薄膜晶体管还包括:缓冲层,设置于所述基板与所述多晶硅层和所述栅极绝缘层之间。

7.根据权利要求1或5或6所述的有机电致发光显示面板,其特征在于,所述有机电致发光材料层从底电极到顶电极顺序包括:空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层及电子注入层。

8.根据权利要求1所述的有机电致发光显示面板,其特征在于,所述底电极是透明的或半透明的,所述顶电极是不透明的且反射光的。

9.一种有机电致发光显示面板的制作方法,其特征在于,包括步骤:

提供一基板;

在所述基板上制作形成薄膜晶体管;

在所述薄膜晶体管的漏极上制作形成底电极;

在所述底电极上制作形成遮光层;

在所述遮光层中制作形成暴露所述底电极的第一过孔;

在所述薄膜晶体管、所述底电极和所述遮光层上制作形成像素限定层;

在所述像素限定层中制作形成完全暴露所述第一过孔的第二过孔,所述第二过孔的孔径大于所述第一过孔的孔径;

在所述底电极和所述遮光层上制作形成有机电致发光材料层,以使所述有机电致发光材料层的边沿位于所述遮光层上;

在所述有机电致发光材料层上制作形成顶电极。

10.根据权利要求9所述的有机电致发光显示面板,其特征在于,实现步骤“在所述基板上制作形成薄膜晶体管”的步骤包括:

在所述基板上制作形成缓冲层;

在所述缓冲层上制作形成多晶硅层;所述多晶硅层包括未掺杂层、分别设置于所述未掺杂层两侧的重掺杂层及设置于所述重掺杂层和所述未掺杂层之间的轻掺杂层;

在所述多晶硅层和所述缓冲层上制作形成栅极绝缘层;

在所述栅极绝缘层上制作形成位于所述多晶硅层上的栅极;

在所述栅极和所述栅极绝缘层上制作形成层间绝缘层;

在所述层间绝缘层中制作形成贯穿所述层间绝缘层和所述栅极绝缘层的第三过孔和第四过孔;

在所述层间绝缘层上制作形成填充所述第三过孔与对应的所述重掺杂层接触的源极以及填充所述第四过孔与对应的所述重掺杂层接触的漏极;

在所述层间绝缘层、所述源极和所述漏极上制作形成平坦层;

在所述平坦层中制作形成将所述漏极暴露的第五过孔。

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