[发明专利]一种显示装置的制作方法

说明书

本发明提供了一种显示装置的制作方法，包括：提供一第一基板；在第一基板上形成第一配向层；使用第一光源对位于第一基板的第一配向层曝光配向；提供一第二基板；在第二基板上形成第二配向层；在第一基板和第二基板之间注入液晶，并将第一基板和第二基板组立形成显示装置；使用第二光源对位于第二基板的第二配向层曝光配向；第一配向层和第二配向层分别设置于第一基板和第二基板相对一侧。实现了对将遮光层和间隔单元放置到第一基板上的显示装置中液晶分子的配向。

技术领域

本发明实施例涉及显示技术，尤其涉及一种显示装置的制作方法。

背景技术

现有技术中，一般将阵列基板和彩膜基板中的配向层进行配向处理，将液晶分子封装在阵列基板和彩膜基板之间，液晶分子在配向层的作用下完成配向。液晶分子的配向目前主要采用两种配向方法，即摩擦配向和光配向。摩擦配向会产生静电和颗粒的污染，而光配向相对来说是一种更好的配型方法。

使用光配向技术在彩膜基板上形成配向层的过程为：使用一定功率、波长的光，一般为紫外光，通过掩膜版对配向层进行光照处理。其中，掩膜版包括透光区域和不透光区域，掩膜版上的透光区域需要和彩膜基板上的待配向层中的待配向区域相对应，故需要通过遮光层或间隔单元作为参考将掩膜版和彩膜基板进行对位。但是对于将遮光层和间隔单元放置到阵列基板上的显示装置来说，无法对彩膜基板中配向层曝光配向，进而无法对液晶分子进行配向。

发明内容

本发明实施例提供一种显示装置的制作方法，以实现对将遮光层和间隔单元放置到第一基板上的显示装置中液晶分子的配向。

本发明实施例提供了一种显示装置的制作方法，所述方法包括：

提供一第一基板；

在所述第一基板上形成第一配向层；

使用第一光源对位于所述第一基板的所述第一配向层曝光配向；

提供一第二基板；

在所述第二基板上形成第二配向层；

在所述第一基板和第二基板之间注入液晶，并将所述第一基板和所述第二基板组立形成所述显示装置；

使用第二光源对位于所述第二基板的所述第二配向层曝光配向；所述第一配向层和所述第二配向层分别设置于所述第一基板和所述第二基板相对一侧。

可选地，对位于所述第一基板的所述第一配向层曝光配向后所述第一配向层的分子链方向，与对位于所述第二基板的所述第二配向层曝光配向后所述第二配向层的分子链方向垂直。

可选地，所述第一基板包括多条数据线和多条扫描线，所述多条数据线和所述多条扫描线绝缘交叉限定出多个子像素；每一所述子像素包括多个显示畴区；

沿所述数据线延伸方向，相邻两个显示畴区对应的第一基板的第一配向层的分子链方向相反；沿所述扫描线延伸方向，相邻两个显示畴区对应的第一基板的第一配向层的分子链方向相同；沿扫描线延伸方向，相邻两个显示畴区对应的第二基板的第二配向层的分子链方向相反；沿数据线延伸方向，相邻两个显示畴区对应的第二基板的第二配向层的分子链方向相同；

或者，

沿所述扫描线延伸方向，相邻两个显示畴区对应的第一基板的第一配向层的分子链方向相反；沿所述数据线延伸方向，相邻两个显示畴区对应的第一基板的第一配向层的分子链方向相同；沿数据线延伸方向，相邻两个显示畴区对应的第二基板的第二配向层的分子链方向相反；沿扫描线延伸方向，相邻两个显示畴区对应的第二基板的第二配向层的分子链方向相同。