[发明专利]一种显示装置的制作方法

权利要求书

1.一种显示装置的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

提供一第一基板；

在所述第一基板上形成第一配向层；

使用第一光源对位于所述第一基板的所述第一配向层曝光配向；

提供一第二基板；

在所述第二基板上形成第二配向层；

其中，所述第一基板包括多条数据线和多条扫描线，所述多条数据线和所述多条扫描线绝缘交叉限定出多个子像素；每一所述子像素包括多个显示畴区；

沿所述数据线延伸方向，相邻两个显示畴区对应的第一基板的第一配向层的分子链方向相反；沿所述扫描线延伸方向，相邻两个显示畴区对应的第一基板的第一配向层的分子链方向相同；沿扫描线延伸方向，相邻两个显示畴区对应的第二基板的第二配向层的分子链方向相反；沿数据线延伸方向，相邻两个显示畴区对应的第二基板的第二配向层的分子链方向相同；

或者，

沿所述扫描线延伸方向，相邻两个显示畴区对应的第一基板的第一配向层的分子链方向相反；沿所述数据线延伸方向，相邻两个显示畴区对应的第一基板的第一配向层的分子链方向相同；沿数据线延伸方向，相邻两个显示畴区对应的第二基板的第二配向层的分子链方向相反；沿扫描线延伸方向，相邻两个显示畴区对应的第二基板的第二配向层的分子链方向相同；

在所述第一基板和第二基板之间注入液晶，并将所述第一基板和所述第二基板组立形成所述显示装置；

使用第二光源对位于所述第二基板的所述第二配向层曝光配向；所述第一配向层和所述第二配向层分别设置于所述第一基板和所述第二基板相对一侧；

所述第一基板包括遮光层和间隔单元；

在所述使用第一光源对位于所述第一基板的所述第一配向层曝光配向之前，还包括：以所述遮光层和所述间隔单元为对位标记将第一掩膜版与所述第一配向层对位；

在所述使用第二光源对位于所述第二基板的所述第二配向层曝光配向之前，还包括：以所述遮光层和所述间隔单元为对位标记将第二掩膜版与所述第二配向层对位；

或者，

所述第一基板包括多条数据线和多条扫描线；在所述使用第一光源对位于所述第一基板的所述第一配向层曝光配向之前，还包括以下步骤：

以所述数据线和所述扫描线为对位标记将第一掩膜版与所述第一配向层对位；

在所述使用第二光源对位于所述第二基板的所述第二配向层曝光配向之前，还包括以下步骤：

以所述数据线和所述扫描线为对位标记将第二掩膜版与所述第二配向层对位。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，对位于所述第一基板的所述第一配向层曝光配向后所述第一配向层的分子链方向，与对位于所述第二基板的所述第二配向层曝光配向后所述第二配向层的分子链方向垂直。