[发明专利]用于镀膜的喷头、设备和相应方法在审
| 申请号: | 201710637283.4 | 申请日: | 2017-07-28 |
| 公开(公告)号: | CN107419239A | 公开(公告)日: | 2017-12-01 |
| 发明(设计)人: | 张嵩;孙韬 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 黄亮 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 镀膜 喷头 设备 相应 方法 | ||
技术领域
本公开涉及薄膜封装领域,更具体地涉及用于镀膜的喷头、设备和相应方法。
背景技术
有机电致发光器件(Organic Light Emitting Diode或简称为OLED)因其对水汽和氧气的敏感性,易受水氧侵蚀而使寿命下降。封装是提升其寿命的关键技术。近几年在柔性OLED器件的制备工艺中,多采用薄膜封装(Thin Film Encapsulation或简称为TFE)的方法。TFE是由多层薄膜堆叠成的组合,其功能主要包含两种,阻水层和平坦层。这些薄膜可通过例如等离子增强化学气相沉积(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition,或简称为PECVD)、物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,或简称为PVD)、真空热蒸镀(Vacuum Thermal Evaporation,或简称为VTE)、喷墨打印(InkJet Printing,或简称为IJP)、丝网打印(Screen Printing)等技术来制备。
然而,消费者期望的可如纸张一样折叠的显示产品,不是一蹴而就,这需要通过克服技术瓶颈或者改变技术路线来实现。随着柔性OLED器件的可弯曲形态目前从弯曲、卷曲到折叠发展,其曲率半径越来越小,导致相应封装工艺也变得越来越难,尤其是阻水层技术。因此,需要开发满足更小曲率半径的技术。
发明内容
为了至少部分解决或减轻上述需要更薄的封装薄膜的问题,提供了根据本公开实施例的用于镀膜的喷头、设备和相应方法。
根据本公开的第一方面,提供了一种用于镀膜的喷头。该喷头包括:第一反应物喷口,用于喷射第一反应物;第二反应物喷口,用于喷射第二反应物;以及第一气帘喷口,用于喷射保护气,使得所喷射的保护气形成的气帘将所述第一反应物和所述第二反应物隔离。
在一些实施例中,喷头还包括:第二气帘喷口,用于喷射保护气,与所述第一气帘喷口所喷射的保护气一起形成用于限定所述第一反应物的反应区域的气帘。在一些实施例中,喷头还包括:第一排气口,用于排出多余的第一反应物;以及第二排气口,用于排出多余的第二反应物和/或反应副产品。在一些实施例中,喷头还包括:反应介质喷口,用于喷射催化所述第一反应物和所述第二反应物发生反应的反应介质。在一些实施例中,所述反应介质为等离子。在一些实施例中,所述喷头具有串联的多组喷口,每组喷口至少包括第一反应物喷口、第二反应物喷口、第一气帘喷口和第二气帘喷口。在一些实施例中,所述第一气帘喷口设置在“所述第一反应物喷口和所述第一排气口”与“所述第二反应物喷口和所述第二排气口”之间;以及所述第二气帘喷口设置在“所述第一反应物喷口和所述第一排气口”与前一组喷口之间。在一些实施例中,所述第一气帘喷口和/或所述第二气帘喷头的喷射压力大于所述第一反应物喷口和/或所述第二反应物喷口的喷射压力。
根据本公开的第二方面,提供了一种用于镀膜的设备。该设备包括:一个或多个根据本公开第一方面所述的喷头;以及传送机构,用于传送待镀膜的镀膜对象,使得所述镀膜对象顺序通过每个喷头的第一反应物的第一反应区域和第二反应物的第二反应区域。
在一些实施例中,所述传送机构以直线往复运动方式来传送所述镀膜对象。
根据本公开的第三方面,提供了一种用于镀膜的方法。该方法包括:喷射保护气并形成气帘,以限定第一反应区域;在所述第一反应区域中向通过所述第一反应区域的所述镀膜对象喷射第一反应物,以在所述镀膜对象的指定区域上形成第一反应物层;以及在所述第一反应区域之外向形成有所述第一反应物层的所述镀膜对象喷射第二反应物,使得所述第一反应物层和所述第二反应物发生反应并在所述镀膜对象上形成所需膜层。
在一些实施例中,所述镀膜对象以直线往复运动方式通过所述第一反应区域。在一些实施例中,方法还包括:排出所述第一反应区域中多余的第一反应物;以及排出所述第一反应区域之外的多余的第二反应物和/或反应副产品。在一些实施例中,方法还包括:喷射供所述第一反应物和所述第二反应物发生反应的反应介质。在一些实施例中,所述反应介质为等离子。
通过使用根据本公开实施例的镀膜喷头、设备和相应方法,可以在对镀膜对象进行镀膜的同时,避免在设备内不必要的位置(例如,设备内壁或基板的非镀膜区)上形成镀膜,减少了清洗设备的时间,提升了设备稼动率。
附图说明
通过下面结合附图说明本公开的优选实施例,将使本公开的上述及其它目的、特征和优点更加清楚,其中:
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





