[发明专利]导线的制造方法和显示面板

说明书

本发明公开了一种导线的制造方法和显示面板，属于显示技术领域。所述方法包括：在衬底结构上形成过渡层，在形成有过渡层的衬底结构上形成金属层，在形成有金属层的衬底结构上形成第一光刻胶图案，以第一光刻胶图案为掩膜对金属层进行刻蚀，形成金属导线，以第一光刻胶图案为掩膜对过渡层进行刻蚀，形成过渡线，过渡线和金属导线构成导线。本发明通过以第一光刻胶图案作为金属层和过渡层的掩膜进行两次刻蚀，形成导线。解决了相关技术中以金属导线作为掩膜刻蚀过渡层时，刻蚀液可能损伤金属导线的问题，达到了保护金属导线的效果。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种导线的制造方法和显示面板。

背景技术

在制造显示面板的过程中，会在衬底结构(该衬底结构可以为衬底基板或栅绝缘层等结构)上形成各种金属导线，但由于金属导线和多数衬底结构之间的附着力较弱，因而通常会在金属导线和衬底结构之间设置与金属导线以及衬底结构的附着力均较强的过渡线，由该过渡线和金属导线共同构成显示面板中的导线。

目前，制造显示面板的方法包括1)在衬底结构上形成过渡层(过渡层通常由与衬底结构以及金属导线的附着力均较强的材料构成；2)在形成有过渡层的衬底结构上形成金属层；3)通过构图工艺在金属层上形成金属导线；4)以金属导线作为掩膜，刻蚀金属导线下方的过渡层，使该过渡层转变为与金属导线形状一致的过渡线。

以金属导线作为掩膜，刻蚀金属导线下方的过渡层时，刻蚀液可能会对金属导线造成损伤。

发明内容

为了解决相关技术的问题，本发明实施例提供了一种导线的制造方法和显示面板。所述技术方案如下：

第一方面，提供了一种导线的制造方法，所述方法包括：

在衬底结构上形成过渡层；

在形成有所述过渡层的衬底结构上形成金属层；

在形成有所述金属层的衬底结构上形成第一光刻胶图案；

以所述第一光刻胶图案为掩膜对所述金属层进行刻蚀，形成金属导线；

以所述第一光刻胶图案为掩膜对所述过渡层进行刻蚀，形成过渡线，所述过渡线和所述金属导线构成所述导线。

可选的，所述过渡层的材料包括透明导电材料，

所述以所述第一光刻胶图案为掩膜对所述过渡层进行刻蚀，形成过渡线之前，所述方法还包括：

在形成有所述金属导线和所述第一光刻胶图案的衬底结构上形成用于作为像素电极图案的掩膜的第二光刻胶图案；

所述以所述第一光刻胶图案为掩膜对所述过渡层进行刻蚀，形成过渡线，包括：

以所述第一光刻胶图案和所述第二光刻胶图案为掩膜对所述过渡层进行刻蚀，形成所述过渡线和所述像素电极图案。

可选的，所述第一光刻胶图案由正性光刻胶构成，所述第二光刻胶图案由负性光刻胶构成；

或者，所述第一光刻胶图案由负性光刻胶构成，所述第二光刻胶图案由负性光刻胶或正性光刻胶构成。

可选的，所述在形成有所述金属导线和所述第一光刻胶图案的衬底结构上形成用于作为像素电极图案的掩膜的第二光刻胶图案，包括：

在形成有所述金属导线和所述第一光刻胶图案的衬底结构上涂布第二光刻胶层；

通过曝光和显影使所述第二光刻胶层转变为所述第二光刻胶图案。

可选的，所述以所述第一光刻胶图案和所述第二光刻胶图案为掩膜对所述过渡层进行刻蚀，形成所述过渡线和所述像素电极图案之后，所述方法还包括：

去除所述第一光刻胶图案和所述第二光刻胶图案。